[发明专利]一种采用增感屏提高胶片曝光效率的方法

说明书

技术领域

本发明一般涉及Laue-x射线衍射领域，特别是涉及快速Laue-x射线衍射方法，可将Laue衍射照相时间缩短5-10倍的方法。

背景技术

x射线衍射是由于x射线进入物质内部，与组成物质的原子的电子间的相互作用而发生传播方向改变的物理性质。当射线与周期性排列的原子发生衍射时，衍射的x射线在空间中某些特定方向的强度大大高于其他方向，并于原子的周期排列方式紧密相关。为此，x射线衍射被大量应用在物质的结构测定和单晶的定向中。在众多x射线衍射在这方面的应用中，Laue-x射线衍射技术(简称为Laue照相，以下同)是确定单晶取向的一个常用技术。其原理为，波长范围相当宽的x射线在原子周期排列的单晶中发生衍射，这些衍射的x射线由于单晶的特定晶面而在空间中某些方向形成射线强度特别强的集束，这些集束的x射线可以使专用的x射线感光胶片曝光，形成与晶体结构对应的斑点族。将胶片曝光适当的时间，并冲洗出来，这些斑点族即显露在胶片上，肉眼可视。人们根据这些斑点的位置和相互距离，即可判定单晶的取向。这对于确定一个单晶的各种取向，准确地切割单晶和使用单晶材料，是十分有用的。传统的Laue照相技术已经被普遍使用。

Laue照相的基本方法是，将x射线专用胶片放置在一个可见光无法进入，而x射线可轻易穿透的暗盒(Laue照相机，简称相机，以下同)内，再将相机放置在待测单晶样品附近，保持一个特定的距离，在单晶衍射出的x射线辐照下曝光一定时间，然后在暗房中冲洗胶片，显露那些x射线衍射斑点。

虽然Laue照相使用的x射线穿透性强，但专用胶片的吸收性差。因此，一般Laue照相需要的时间比较长，大约为1-6小时不等，因单晶种类不同和x射线强度(正关联于x射线设备的输出功率大小)的不同而不同。这样长的照相时间影响了Laue照相技术的使用效率。

发明内容

针对现有技术存在的问题，本发明提供一种采用增感屏提高胶片曝光效率的方法。

为实现上述目的，本发明包括以下步骤：

(1)把增感屏的发光面面对胶片；

(2)向增感屏发射x射线，增感屏在x射线照射下发出蓝-紫色波段的可见光；

(3)在这些可见光和x射线的共同曝光作用下对胶片曝光；

(4)在暗房中冲洗胶片，显露那些x射线衍射斑点。

进一步，x射线的设备为所用类型的通用x射线Laue照相设备，Laue照相机即为这些设备所配备的各种Laue照相机。

进一步，所述x射线Laue照相设备输出功率是可调节的，x射线幅照的功率输出即为这些设备规定的输出功率适用范围。

本发明采用的医用x射线增感屏为一般医用增感屏。把增感屏的发光面面对对胶片，这些增感屏在x射线的照射下，可发出蓝-紫色波段的可见光，并使所用的专用胶片曝光。于是，在这些可见光和x射线的共同曝光作用下，所用的胶片曝光作用大大提高，在比不使用增感屏缩短5-10倍的时间内，即可完成胶片的曝光，因此大大缩短了曝光时间，同时，本发明使用增感屏还可以有效消除杂散x射线的曝光对胶片背景的影响，提高胶片曝光的质量，增强斑点的清晰度。

附图说明

图1是采用实施例1方法获得的Laue照相斑点。

具体实施方式

实施例1：

用该方法进行定向的单晶为硅单晶；x射线Laue照相设备功率输出为600瓦，曝光时间10分钟。获得的Laue照相斑点如图1。不采用本方法获得同样效果所需时间为100分钟。

实施例2：

用该方法进行定向的单晶为硅单晶，x射线Laue照相设备功率输出为500瓦，曝光时间30分钟。获得的Laue照相斑点清晰度如图1。不采用本方法获得同样效果所需时间为150分钟。

实施例3：

用该方法进行定向的单晶为Ni₂MnGa单晶，x射线Laue照相设备功率输出为600瓦，曝光时间20分钟。获得的Laue照相斑点清晰度如图1。不采用本方法获得同样效果所需时间为160分钟。

实施例4：

用该方法进行定向的单晶为Ni₂MnGa单晶，x射线Laue照相设备功率输出为550瓦，曝光时间40分钟。获得的Laue照相斑点清晰度如图1。不采用本方法获得同样效果所需时间为200分钟。