[发明专利]溅镀式镀膜装置及方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜装置及方法，尤其涉及一种溅镀式镀膜装置及方法。

背景技术

溅镀是利用等离子体产生的离子去撞击阴极靶材，将靶材内的原子撞出而沉积在基材表面堆积成膜。由于溅镀可以同时达成较佳的沉积效率、精确的成份控制、以及较低的制造成本，因此在工业上被广泛应用。

当前手机数码相机镜头的应用已日渐普及，因此有必要提升其关键零组件的制造技术，以有效地降低其制造成本及提升其良率。作为相机镜头关键零组件之一的光学模组通常包括镜筒以及收容在镜筒内的镜片、垫片(Spacer)、光圈、红外截止滤光片(IR-cut Filter)等元件。由于手机数码相机镜头里的影像感测器，如电荷耦合感测器是通过感应光的能量来产生电流的，所以即使在光线很暗的环境下仍然会因为温度、红外线、电磁波等因素的影响而产生噪声(Noise)；而红外截止滤光片则可以经由其形成在玻璃基材上的红外截止光学膜层将红外光滤除掉以降低其噪声。

随着对高阶手机数码相机镜头的需求越来越高，在红外截止滤光片背面在镀上一抗反射光学膜层(Anti-Reflective Coating，简称AR Coating)以提升光通过红外截止滤光片的玻璃基材的穿透率之需求也逐渐产生。通常经由溅镀方式制作具有抗反射光学膜层的红外截止滤光片包括以下步骤：(1)将玻璃基材装载在工作腔内并对该工作腔进行第一次抽真空，然后经由第一次溅镀在玻璃基材的一侧沉积红外截止光学膜层，以获得一半成品；(2)第一次破真空，从工作腔内取出该半成品，并对该半成品进行第一次清洗；(3)将上述清洗完的半成品再次装载在工作腔内并对该工作腔进行第二次抽真空，然后经由第二次溅镀在玻璃基材的相对的另一侧沉积抗反射光学膜层，以获得具有抗反射光学膜层的红外截止滤光片成品；(4)第二次破真空，从工作腔内取出该成品并进行再次清洗。然而，由于上述溅镀工艺每次只能对玻璃基材进行单面成膜，导致需要进行两次破真空及两次清洗，其在一定程度上增加了人工成本及半成品管理成本。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种溅镀式镀膜装置及方法，以对基材进行双面镀膜。

本发明提供一种溅镀式镀膜装置，其包括本体，转盘，若干个承载件，驱动装置，第一靶电极及第二靶电极。该转盘置于本体内，该若干个承载件设置于转盘上用于承载待镀工件。该驱动装置用于驱动该承载件转动一定角度，如180度。第一靶电极和第二靶电极相对设置在本体上交替的在待镀工件的某一待镀表面进行镀膜。该装置可在一次制程中完成对待镀工件的双面镀膜。

一种溅镀式镀膜方法，其包括以下步骤：(1)提供一种如权利要求1至9任一项所述的溅镀式镀膜装置，将待镀工件装载在承载件的容置通孔内，抽真空；(2)转盘开始旋转，向第一靶电极施加负电压，将承载件接地；(3)关闭第一靶电极，开启第二靶电极；(4)重复一次或多次步骤(2)和步骤(3)，转盘停止旋转；(5)关闭第一靶电极和第二靶电极，通过驱动装置将承载件翻转180度，使待镀工件的另一表面暴露于所述第一靶电极和第二靶电极之间；(6)重复步骤(2)和步骤(3)。

相对于现有技术，所述溅镀式镀膜装置经由设置驱动装置及在工作室内设置具有容置通孔的承载件，可使得装载在相对设置的第一靶电极与第二靶电极上的靶材交替地对收容于容置通孔的待镀工件(如玻璃基材)的某一待镀表面进行镀膜。另外，经由驱动装置驱动该承载件转动一定角度如180度，还可在同一制程中实现对另一相对的待镀表面进行镀膜。因此，所述溅镀式镀膜装置可在一次制程中完成对待镀工件进行双面镀膜之目的，其可节省现有技术中第一次破真空、第二次抽真空及第一次清洗的时间以及半成品的管理成本，进而可大大降低生产成本及提升生产效率。

附图说明

图1是本发明第一实施例提供的一种溅镀式镀膜装置的分解示意图。

图2是图1所示溅镀式镀膜装置的局部剖示图。

图3是本发明第二实施例提供的一种溅镀式镀膜装置的分解示意图。

图4是图3所示溅镀式镀膜装置的局部剖示图。

具体实施方式

下面将结合附图，对本发明作进一步的详细说明。

本发明提供一种溅镀式镀膜装置，其包括本体，转盘，若干个承载件，驱动装置，第一靶电极及第二靶电极。该转盘置于本体内，该若干个承载件设置于转盘上用于承载待镀工件。该驱动装置用于驱动该承载件转动一定角度，如180度。第一靶电极和第二靶电极相对设置在本体上交替的在待镀工件的某一待镀表面进行镀膜。该装置可在一次制程中完成对待镀工件的双面镀膜。