[发明专利]碱显影型的糊剂组合物有效
申请号: | 200710187257.2 | 申请日: | 2007-11-15 |
公开(公告)号: | CN101183219A | 公开(公告)日: | 2008-05-21 |
发明(设计)人: | 佐佐木正树;伊藤信人;有马圣夫 | 申请(专利权)人: | 太阳油墨制造株式会社 |
主分类号: | G03F7/029 | 分类号: | G03F7/029;G03F7/004 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显影 组合 | ||
技术领域
本发明涉及碱显影型的糊剂组合物和使用其的导电性图案和黑色矩阵图案的形成方法以及该导电性图案和黑色矩阵图案,其中该碱显影型的黑色糊剂组合物适合于对薄型显示器等有用的导电性图案和黑色矩阵图案的形成。另外,下面将指示导电性图案和黑色矩阵图案两者的情况表示成图案。除此以外的情况下,分别表示成导电性图案、黑色矩阵图案。本发明更详细地说,涉及一种碱显影型的糊剂组合物,其适于使用了最大波长350nm~420nm的活性能量射线的激光直接成像装置,对效率良好地形成精细的图案有用,并且保存稳定性优异,以及涉及使用了该组合物的图案的形成方法及其图案。
背景技术
一直以来,薄型显示器的玻璃基板等形成有作为电极的导电性图案。另外,前面板使用黑色矩阵图案。而且其形成法如下,例如,在玻璃基板上,涂布干燥图案用的抗蚀剂而形成涂膜,该涂膜通过描绘有电路、电极图案的光掩模而使用活性能量射线曝光图像,然后利用曝光部和非曝光部对显影液的溶解性的不同,以碱性水溶液进行显影处理,由此形成与电路、电极图案对应的抗蚀层,进行烧成,从而形成与玻璃基板密合的图案。
通过作为该活性能量射线的激光扫描使其感光、曝光的组合物,提出了含有特定的染料敏化剂和二茂钛化合物等的组合物(例如,参照专利文献1和专利文献2。)、含有特定的双酰基膦氧化物的激光感光性组合物(例如,参照专利文献3。),但这些组合物得不到对于活性能量射线的充分的感光度。
专利文献1:日本特开2002-351071号公报(权利要求书)
专利文献2:日本特开2002-351072号公报(权利要求书)
专利文献3:日本特开2004-45596号公报(权利要求书)
发明内容
发明所要解决的问题
本发明是鉴于上述问题而进行的,其主要目的在于提供一种碱显影型的糊剂组合物,其对活性能量射线的感光度高并且对于效率良好地形成精细的图案有用,以及提供使用了该组合物的图案的形成方法及其图案。
用于解决问题的方法
为了解决上述课题,本发明具备以下组成。
(1)一种碱显影型的糊剂组合物,其特征在于,其包含:(A)含羧基树脂、(B)玻璃粉、(C)无机粉末、(D)一分子中具有至少1个以上自由基聚合性不饱和基团的化合物、(E-1)下述通式(I)所示的肟酯系光聚合引发剂、以及(F)下述通式(II)所示的硫化合物,
式中,R1表示氢原子、碳原子数1~6的烷基、或苯基,R2表示氢原子、碳原子数1~6的烷基,
或
式中,R3表示烷基、芳基或取代芳基,R4表示氢原子或烷基,另外,R3和R4表示相互结合形成可以包含选自氧、硫和氮原子的杂原子的5元环到7元环所需要的非金属原子群。
(2)根据(1)所述的碱显影型的糊剂组合物,其特征在于,所述肟酯系光聚合引发剂(E-1)为下述通式(III)所示的(1)所述的肟酯系光聚合引发剂,
式中,1个或2个R5如下述通式(I)所示,其中2个R5如通式(I)所示时,包括R5各自不同的情况;其余R5表示氢原子、甲基、苯基或卤原子,其中包括各R5各自不同的情况,
式中,R1表示氢原子、碳原子数1~6的烷基、或苯基,R2表示氢原子、碳原子数1~6的烷基。
(3)根据(1)或(2)所述的碱显影型的糊剂组合物,其特征在于,所述含羧基树脂(A)进一步是(A-1)具有一个以上自由基聚合性不饱和基团的含羧基树脂。
(4)根据(1)或(2)所述的碱显影型的糊剂组合物,其特征在于,还包含(E-2)下述通式(IV)所示的氧化膦系光聚合引发剂,
式中,R6、R7各自地独立表示碳原子数1~10的直链状或支链状的烷基、环己基、环戊基、芳基、或者被卤原子、烷基或烷氧基取代的芳基、或者任一方为碳原子数1~20的羰基。
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