[发明专利]阻焊膜形成方法和感光性组合物有效

专利信息
申请号: 200710187254.9 申请日: 2007-11-15
公开(公告)号: CN101192001A 公开(公告)日: 2008-06-04
发明(设计)人: 柴崎阳子;加藤贤治;有马圣夫 申请(专利权)人: 太阳油墨制造株式会社
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/32;G03F7/20;G03F7/004;G03F7/26
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 阻焊膜 形成 方法 感光性 组合
【权利要求书】:

1.阻焊膜的形成方法,其特征在于,将感光性组合物涂布到基材上使其干燥后,对该干燥涂膜照射彼此波长不同的2种以上激光,形成所述2种以上激光分别照射得到的图案潜影,然后,通过碱性水溶液进行显影。

2.阻焊膜的形成方法,其特征在于,将感光性组合物涂布到基材上使其干燥后,对该干燥涂膜照射第1激光和与所述第1激光波长不同的第2激光,形成所述第1激光和第2激光双方照射得到的图案潜影,然后,通过碱性水溶液进行显影。

3.根据权利要求2所述的阻焊膜的形成方法,其特征在于,所述第1激光和所述第2激光中的一方是蓝紫激光。

4.感光性组合物,其特征在于,该感光性组合物用于权利要求2所述的阻焊膜的形成方法,其中,其曝光前的干燥涂膜每25μm厚度,在355~380nm的波长范围显示0.6~1.2的吸光度,并且,在405nm的波长下显示0.3~0.6的吸光度。

5.根据权利要求4所述的感光性组合物,其特征在于,曝光前的所述干燥涂膜每25μm厚度,在355~380nm的波长范围的最大吸光度与在405nm的波长下的吸光度之差为0.3以上且不足0.6。

6.根据权利要求4所述的感光性组合物,其特征在于,曝光前的干燥涂膜每25μm厚度,在355nm的波长下显示0.6~1.0的吸光度,以及在405nm的波长下显示0.3~0.5的吸光度,并且,在355nm的波长下的吸光度与在405nm的波长下的吸光度之差为0.3以上且不足0.5。

7.根据权利要求4所述的感光性组合物,其特征在于,所述感光性组合物包含(A)含羧酸树脂、(B)光聚合引发剂、以及(C)颜料。

8.根据权利要求7所述的感光性组合物,其特征在于,所述光聚合引发剂(B)是选自具有式(I)所示的基团的肟酯系光聚合引发剂、具有式(II)所示的基团的α-氨基苯乙酮系光聚合引发剂、以及具有式(III)所示的基团的酰基氧化膦系光聚合引发剂所组成的组中的1种以上光聚合引发剂,

式中,R1表示氢原子,可被碳原子数1~6的烷基、苯基或卤原子取代的苯基,可被1个以上羟基取代且也可在烷基链的中间具有1个以上氧原子的碳原子数1~20的烷基,碳原子数5~8的环烷基,可被碳原子数1~6的烷基或苯基取代的碳原子数2~20的烷酰基或苯甲酰基,

R2表示可被碳原子数1~6的烷基、苯基或卤原子取代的苯基,可被1个以上羟基取代且也可在烷基链的中间具有1个以上氧原子的碳原子数1~20的烷基,碳原子数5~8的环烷基,可被碳原子数1~6的烷基或苯基取代的碳原子数2~20的烷酰基或苯甲酰基,

R3和R4各自独立地表示碳原子数1~12的烷基或芳烷基,

R5和R6各自独立地表示氢原子、碳原子数1~6的烷基、或两者结合而成的环状烷基醚基,

R7和R8各自独立地表示碳原子数1~10的直链状或支链状烷基、环己基、环戊基、芳基、或者可被卤原子、烷基或烷氧基取代的芳基,其中,R7和R8中的一方也可表示R-C(=O)-基,这里,R是碳原子数1~20的烃基。

9.根据权利要求8所述的感光性组合物,其特征在于,所述具有式(I)所示的基团的肟酯系光聚合引发剂包含式(IV)的化合物。

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