[发明专利]彩色滤光片及其制造方法和液晶显示装置

权利要求书

1.一种彩色滤光片，其特征在于，包括：

基板，

第一引线，形成在所述基板上；

光敏元件，以矩阵排列方式形成在所述基板上，同列的光敏元件与所述第一引线连接；

黑矩阵，以矩阵排列方式形成在所述基板上，在所述黑矩阵覆盖所述光敏元件位置形成有第一过孔；

第二引线，形成在所述黑矩阵上，与所述第一引线垂直，并通过所述第一过孔与同行的光敏元件连接；

彩色树脂，形成在所述黑矩阵之间。

2.根据权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于：所述光敏元件为非晶硅、硫化镉和/或酞箐氧钛材料制成的光敏电阻片。

3.根据权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于：所述光敏元件贴设在所述第一引线上与所述第一引线连接。

4.根据权利要求2所述的彩色滤光片，其特征在于还包括：

第二过孔，形成在所述光敏电阻片上方的所述黑矩阵上；

第三过孔，形成在所述第一引线上方的所述黑矩阵上；

跨接线，设置在所述黑矩阵上，所述跨接线的一端穿设于所述第二过孔中与所述光敏电阻片相连，所述跨接线的另一端穿设于所述第三过孔中与所述第一引线相连。

5.根据权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于：所述光敏元件为光敏二极管，所述光敏二极管的第一电极贴设于所述第一引线之上，所述光敏二极管的第二电极贴设于所述第一电极之上，并通过所述第一过孔与所述第二引线连接。

6.根据权利要求5所述的彩色滤光片，其特征在于：所述第一电极的材质为掺入硼原子的非晶硅，所述第二电极的材质为掺入磷原子的非晶硅。

7.根据权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于：所述光敏元件为光敏三极管。

8.根据权利要求1～7所述的任一彩色滤光片，其特征在于：所述第一引线的材质为氧化铟锡或氧化锌。

9.根据权利要求1～7所述的任一彩色滤光片，其特征在于：所述第二引线和所述跨接线的材质为金属。

10.一种彩色滤光片的制造方法，其特征在于，包括：

步骤1、在基板上沉积导电材料，通过曝光和蚀刻工艺形成第一引线；

步骤2、在完成步骤1的基板上沉积光敏材料，通过曝光和蚀刻工艺形成以矩阵方式排列的光敏元件，同列的光敏元件与所述第一引线连接；

步骤3、在完成步骤2的基板上形成以矩阵方式排列的黑矩阵，在所述黑矩阵覆盖所述光敏元件位置形成第一过孔；

步骤4、在完成步骤3的基板上沉积导电材料，通过曝光和蚀刻工艺形成与所述第一引线垂直，且通过所述第一过孔与同行的光敏元件连接的第二引线；

步骤5、在完成步骤4的基板上依次形成位于所述黑矩阵之间的彩色树脂。

11.根据权利要求10所述的彩色滤光片制造方法，其特征在于，所述步骤1具体为：在基板上采用磁控溅射方法、电子束蒸发法或热蒸发法沉积氧化铟锡或氧化锌材料，通过曝光和蚀刻工艺形成第一引线。

12.根据权利要求10所述的彩色滤光片制造方法，其特征在于，所述步骤2具体为：在完成步骤1的基板上采用化学气相沉积方法沉积非晶硅材料，通过曝光和蚀刻工艺形成以矩阵方式排列的光敏电阻片，同列的光敏电阻片与所述第一引线连接。

13.根据权利要求10所述的彩色滤光片制造方法，其特征在于，所述步骤2具体为：在完成步骤1的基板上沉积掺入硼原子的非晶硅材料，并在掺入硼原子的非晶硅材料上沉积掺入磷原子的非晶硅材料，通过曝光和蚀刻工艺形成以矩阵方式排列的、第一电极设置在第二电极上的光敏二极管，同列的光敏二极管的第二电极与所述第一引线连接。

14.根据权利要求10所述的彩色滤光片制造方法，其特征在于，所述步骤4具体为：在完成步骤3的基板上采用磁控溅射方法、电子束蒸发法或热蒸发法沉积金属材料，通过曝光和蚀刻工艺形成与所述第一引线垂直、且通过所述第一过孔与同行的光敏元件连接的第二引线。