[发明专利]一套测量电子自旋注入和滤波的显微测量系统无效

专利信息
申请号: 200710178300.9 申请日: 2007-11-29
公开(公告)号: CN101452043A 公开(公告)日: 2009-06-10
发明(设计)人: 肖文波;郑厚植;李桂荣;刘剑;谭平恒;扬威;张飞 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: G01R31/26 分类号: G01R31/26;G01R31/265;G01R33/12
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 周国城
地址: 100083北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一套 测量 电子 自旋 注入 滤波 显微 系统
【权利要求书】:

1.一套测量电子自旋注入和滤波的显微测量系统,其特征在于,包括:

一HeNe激光器(101),用来激发样品;

一渥拉斯顿棱镜(102),把前面的激光器发出来的光调制成线偏振光;

一光弹调制器(103),把线偏振光调制成50kHz左旋和右旋圆偏振光,并提供第一锁相放大器(104)触发信号;

一第一锁相放大器(104),用来测量样品偏振相关电子输运电压;

一第二锁相放大器(105),用来测量样品光伏电压;

一数字电压表(106),测量样品直流偏压;

一恒流源(107),用来给样品施加偏置电流;

一显微物镜(108),用来聚焦激光,使其照射到样品上;

一斩波器(109),调制入射光强,并提供第二锁相放大器(105)触发信号;

一白光光源(110),用来照射样品,以便于摄像机和显示器(112)能清楚显示激光照射样品的位置;

一两个半反半透镜组(111),用来把激光和白光汇合后照射样品,且把反射光成像到所述摄像机和显示器(112);

一所述摄像机和显示器(112),用来显示和记录激光照射样品位置;

一可变磁场样品座(113),安放样品的地方,且施加不同磁场于样品上。

2.根据权利要求1所述的一套测量电子自旋注入和滤波的显微测量系统,其特征在于,用经过光弹调制器(103)后变成的左旋和右旋交替变化的偏振光激发样品,在半导体中得到自旋极化电子,通过恒流源(107)调控半导体中电子的流向,外加磁场控制铁磁金属的磁化强度方向;利用第一锁相放大器(104)、第二锁相放大器(105)和数字电压表(106)测量出固定磁场中,不同大小和方向偏压下,电子自旋的注入和滤波效率。

3.根据权利要求1或2所述的一套测量电子自旋注入和滤波的显微测量系统,其特征在于,利用白光光源(110),两个半反半透镜组(111),以及所述摄像机和显示器(112)构成监视光路,观察激光照射到样品中台面的位置。

4.根据权利要求1或2所述的一套测量电子自旋注入和滤波的显微测量系统,其特征在于,利用斩波器(109)和第二锁相放大器(105),测量光照样品产生的光伏效应,对比直流光伏响应信号,保证测量过程的正确性。

5.根据权利要求1或2所述的系统,其特征在于,利用可变磁场样品座(113),测量光照样品光电压在不同磁场下的随直流电压的变化。

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