[发明专利]一种检测装置及其检测方法

说明书

技术领域

本发明提供一种检测装置及其检测方法，更具体来说，为一种适用于曝光机内部，以检测导轨的各表面与相对应滑道之间距是否维持于曝光机可正常工作之间距范围内的检测装置及其检测方法。

背景技术

随着信息科技产业日益蓬勃发展，其中液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)因具备无辐射、低耗电、体积小、寿命长等优点，其不仅可显示丰富的色彩，且该影像质量也相当优异，因此已成为目前平面显示器中最受瞩目的产品。

由于现今玻璃基板的面积已发展为早期玻璃基板的面积的36倍以上，因此该液晶显示器产业大多采用XY步进型(Step)接近式(Proximity)曝光机以执行更大尺寸的玻璃基板的曝光处理，此举除可有效地解决成本过高外，更可有效地解决当传统式曝光机应用于大尺寸的玻璃基板时，由于该曝光机的平台(Plate Stage)需长期且快速的移动，移动中会产生相对应力，造成该平台气浮不平衡，而引起自身重量过重，从而导致该平台的外罩(Wing)内的气浮调整组件易与相对应的导轨(Guide)产生碰撞因而受损的缺点。

请参阅图1，为一种现有曝光机的俯视图，该曝光机10为一种XY步进型接近式曝光机，包括一底座100，在该底座100上方的左侧边设置有一第一导轨101、一第一滑道上侧边103a与第一导轨101的上方保持在7μmm至9μmm的特定间距范围内、一第一滑道内侧边103b与第一导轨101的右侧保持在3μmm至5μmm的特定间距范围内以及一第一滑道外侧边103c与第一导轨101的左侧(外侧)保持在3μmm至5μmm的特定间距范围内；相对的，该底座100上方的右侧边也设置一第二导轨102，以及一呈倒L型的第二滑道外侧边104与第二导轨102的上方保持在7μmm至9μmm的特定间距范围内。因此该第二滑道外侧边104即为一种现有半包覆式滑轨结构，而第一滑道上侧边103a、第一滑道内侧边103b与第一滑道外侧边103c，则为另一种现有全包覆式滑轨结构。

于第一滑道上侧边103a、第一滑道内侧边103b、第一滑道外侧边103c，以及第二滑道上侧边104的各间距表面上，分别设有复数个气浮调整装置(未图标)，所述的气浮调整装置包括复数个喷气装置，用以对第一导轨101与第二导轨102的各表面喷发一种气体，使得第一滑道上侧边103a、第一滑道内侧边103b、及第一滑道外侧边103c以及第二滑道上侧边104分别与第一导轨101及第二导轨102之间保持一固定的间距范围而不相互触碰，此即为现有的“气浮式导轨”。

另外，该曝光机10还包括：两外罩(Wing)105a、105b分别设于第一滑道内侧边103b及第二滑道外侧边104的外缘处、一第三导轨106具有两相对端分别连接所述的外罩105a、105b、一全包覆式的第三滑道107与第三导轨106各表面之间保持一间距以同样利用气浮方式不碰触第三导轨106的各表面，以及一吸附盘108设置于第三滑道107的上方以吸附欲曝光的玻璃基板。

当曝光机10正常运作时，通过第一滑道上侧边103a、第一滑道内侧边103b、第一滑道外侧边103c以及第二滑道上侧边104，分别沿着第一导轨101及一第二导轨102作纵向移动，可同时带动玻璃基板沿着Y轴向上或向下移动，并通过第三滑道107于第三导轨106上作横向移动，便可带动玻璃基板沿着X轴向左或向右移动。

虽然，上述现有技术的XY步进型接近式曝光机10均采用气浮式导轨，以减小摩擦、隔离振动以及提高系统动态控制特性(Dynamic Characteristic)。但是，当该曝光机10运作一段时间后，可能因第一导轨101或第二导轨102与其对应的气浮调整装置之间的气量有所变动，或位于X轴向的吸附盘108产生偏移等因素，进而造成第一导轨101或第二导轨102与相对应的气浮调整装置相互接触，此时若不实时处理的话，则容易造成曝光机10当机以至于无法运作，且同时会使得第一导轨101或第二导轨102及相对应的气浮调整装置受到损伤，或者，也可能于该曝光机10初始化时造成吸附盘108锁住的现象；换言之，即该曝光机10无法驱动吸附盘108的移动。更严重者，可能使得位于第一滑道内侧边103b的外罩105a产生裂缝。然而，当外罩105a、105b所承受的负荷达到临界值时，该裂缝便会开始成长，进而导致外罩105a的强度骤降而缩短该曝光机10的寿命，甚至可能会导致非预期性的破坏。