[发明专利]一种检测装置及其检测方法有效
| 申请号: | 200710169932.9 | 申请日: | 2007-11-08 |
| 公开(公告)号: | CN101149568A | 公开(公告)日: | 2008-03-26 |
| 发明(设计)人: | 丘俊轩 | 申请(专利权)人: | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 任默闻 |
| 地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 检测 装置 及其 方法 | ||
1.一种检测装置,其适用于检测曝光机内部导轨的各表面与相对应滑道的间距,其特征在于,该检测装置包含:
一检测电路,设置在与导轨的各表面呈相对位置的滑道内,并执行一检测运作以检测所述的曝光机内导轨的各表面与相对应滑道的实际间距是否维持于曝光机可正常工作的一特定间距范围内,且根据所检测到的实际间距产生一检测结果;
复数个检测区域,其设置在检测电路内部,并可根据该检测电路的检测结果产生一显示信号,以及
复数个感知组件,其电性连接所述的检测区域,并用于接收由检测区域所产生的显示信号,且根据该显示信号以决定是否执行显示动作。
2.如权利要求1所述的检测装置,其特征在于,所述的检测电路还可电性连接至一调整装置,并进一步利用该调整装置检测所述的曝光机导轨是否维持于可正常工作的特定间距范围内。
3.如权利要求2所述的检测装置,其特征在于,所述的调整装置设置在所述的曝光机滑道的内部,用于使导轨的各表面与相对应滑道之间维持于所述的曝光机可正常工作的特定间距范围内。
4.如权利要求3所述的检测装置,其特征在于,所述的调整装置可为一喷气装置,其用以对所述的曝光机导轨的各表面喷发气体,从而将用于使导轨的各表面与相对应滑道之间维持于所述的曝光机可正常工作的特定间距范围内。
5.如权利要求1所述的检测装置,其特征在于,所述的感知组件包含P-N接面二极管。
6.如权利要求5所述的检测装置,其特征在于,所述的感知组件还包含发光二极管。
7.如权利要求1所述的检测装置,其特征在于,所述的曝光机导轨的左表面及右表面与相对应滑道之间的特定间距范围各约为3μmm至5μmm之间。
8.如权利要求1所述的检测装置,其特征在于,所述的曝光机导轨的上表面与相对应滑道之间的特定间距范围约为7μmm至9μmm之间。
9.一种检测方法,其适用于曝光机,其特征在于,该检测方法包含以下步骤:
利用一检测电路执行一检测运作以检测曝光机内部导轨的各表面与相对应滑道的实际间距;
若检测到所述的导轨的至少一表面与相对应滑道之间的实际间距已超过所述的曝光机可正常运作的一特定间距范围时,则所述的检测电路根据所述的实际间距以产生一检测结果;
所述的检测电路将所述的检测结果传送至至少一相对应的检测区域,并通过所述的检测区域产生一显示信号;
所述的检测区域将所述的显示信号传送至一对应的感知组件;以及
所述的感知组件根据所接收到的显示信号,以执行显示动作。
10.如权利要求9所述的检测方法,其特征在于,所述的检测电路可通过一电池提供的电力驱动检测。
11.如权利要求9所述的检测方法,其特征在于,该方法进一步包括:通过所述的曝光机内建的软件执行所述的检测运作。
12.如权利要求9所述的检测方法,其特征在于,所述的曝光机的至少一导轨的左表面及右表面与相对应滑道之间的特定间距范围各约在3μmm至5μmm之间。
13.如权利要求9所述的检测方法,其特征在于,所述的曝光机的至少一导轨的上表面与相对应滑道之间的特定间距范围约在7μmm至9μmm之间。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于友达光电股份有限公司,未经友达光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710169932.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





