[发明专利]图案转录装置和该图案转录装置的底板的制造方法

权利要求书

1、一种图案转录装置，该图案转录装置包括：

底板，其包括凹部、凸部和印刷阻挡物，所述印刷阻挡物形成在所述凹部的底面上；以及

敷层，其上涂覆有抗蚀材料层，该敷层可以在所述底板上滚动，

其中，所述敷层的表面能量密度大于所述印刷阻挡物的表面能量密度并且小于所述底板的表面能量密度。

2、如权利要求1所述的装置，其中，所述敷层的表面能量密度在20mJ/cm²与23mJ/cm²之间。

3、如权利要求1所述的装置，其中，所述印刷阻挡物的表面能量密度在13mJ/cm²与18mJ/cm²之间。

4、如权利要求3所述的装置，其中，所述印刷阻挡物包括聚四氟乙烯。

5、如权利要求1所述的装置，其中，所述敷层包括第一层、第二层和第三层，所述第一层与所述抗蚀材料层接触，所述第二层位于所述第一层和所述第三层之间。

6、如权利要求5所述的装置，其中，所述第一层的硬度小于所述第二层的硬度并且大于所述第三层的硬度。

7、如权利要求5所述的装置，其中，所述第三层的厚度大于所述第一层的厚度以及所述第二层的厚度。

8、如权利要求5所述的装置，其中，所述第一层包括聚乙烯和聚对苯二甲酸乙二醇酯之一。

9、如权利要求5所述的装置，其中，所述第三层是由包括硅和橡胶的弹性材料形成的。

10、如权利要求9所述的装置，其中，所述第三层包括多个泡沫材料颗粒。

11、如权利要求1所述的装置，其中，与所述凸部相对应的所述抗蚀材料层从所述敷层脱离并被转印到所述凸部上，并且与所述凹部相对应的所述抗蚀材料层留下从而形成抗蚀图案。

12、一种图案转录装置，该图案转录装置包括：

底板，其包括凹部和凸部；以及

敷层，其上涂覆有抗蚀材料层，该敷层可在所述底板上滚动，并且包括第一层、第二层和第三层，所述第一层与所述抗蚀材料层接触，所述第二层位于所述第一层和所述第三层之间，

其中，所述第一层的硬度小于所述第二层的硬度并且大于所述第三层的硬度。

13、如权利要求12所述的装置，其中，所述第三层的厚度大于所述第一层的厚度以及所述第二层的厚度。

14、一种图案转录装置，该图案转录装置包括：

底板，其包括凹部和凸部；以及

敷层，其上涂覆有抗蚀材料层，该敷层可以在所述底板上滚动，并且包括第一层、第二层和第三层，所述第一层与所述抗蚀材料层接触，所述第二层位于所述第一层和所述第三层之间，

其中，所述第三层的厚度大于所述第一层的厚度以及所述第二层的厚度。

15、一种图案转录装置的底板的制造方法，该方法包括以下步骤：

在基板上形成金属图案；

使用所述金属图案作为蚀刻掩模，对所述基板进行蚀刻，以形成凹部和凸部；以及

在所述凹部的底面上形成印刷阻挡物，

其中，所述印刷阻挡物的表面能量密度小于所述基板的表面能量密度。

16、如权利要求15所述的方法，其中，形成所述印刷阻挡物的步骤包括以下步骤：

在包括所述凹部和所述凸部的所述基板上形成低表面能量材料层；以及

去除所述金属图案上的所述低表面能量材料层，以形成所述印刷阻挡物。

17、如权利要求15所述的方法，其中，形成所述印刷阻挡物的步骤包括以下步骤：

从包括所述凹部和所述凸部的所述基板上去除所述金属图案；

在包括所述凹部和所述凸部的所述基板上形成低表面能量材料层；以及

去除所述凸部上的所述低表面能量材料层，以形成所述印刷阻挡物。

18、如权利要求15所述的方法，其中，所述印刷阻挡物具有从所述基板的底面起算的高度。

19、如权利要求15所述的方法，其中，形成所述金属图案的步骤包括以下步骤：

在所述基板上形成金属层并且在所述金属层上形成感光材料层；

使用掩模对所述感光材料层进行曝光；

对所述感光材料层进行显影以形成感光材料图案；以及

使用所述感光材料图案作为蚀刻掩模，对所述金属层进行蚀刻，以在所述基板上形成所述金属图案。