[发明专利]集成电感

权利要求书

1.一种集成电感，所述的集成电感包含：

线圈，其中所述的线圈包含：

第一金属层，镶嵌至第一绝缘层；以及

第二金属层镶嵌至位于所述的第一绝缘层上的第二绝缘层；以及

第一线形过孔结构镶嵌至位于所述的第一绝缘层与所述的第二绝缘层之间的第三绝缘层上的通孔槽，用以将所述的第一绝缘层与所述的第二绝缘层相互连接。

2.根据权利要求1所述的集成电感，其特征在于，所述的第一金属层包含铜。

3.根据权利要求1所述的集成电感，其特征在于，所述的第二金属层包含铜。

4.根据权利要求1所述的集成电感，其特征在于，所述的第二金属层以及所述的第一线形通孔结构是一个整体。

5.根据权利要求1所述的集成电感，其特征在于，所述的第二金属层以及所述的第一线形通孔结构是通过铜双镶嵌结构方法形成。

6.根据权利要求1所述的集成电感，其特征在于，所述的第一绝缘层包含氧化硅，氮化硅，碳化硅，氮氧化硅，低介电系数材料或是超低介电系数材料。

7.根据权利要求1所述的集成电感，其特征在于，所述的第二绝缘层包含氧化硅，氮化硅，碳化硅，氮氧化硅，低介电系数材料或是超低介电系数材料。

8.根据权利要求1所述的集成电感，其特征在于，所述的第一金属层，所述的第二金属层以及所述的第一线形通孔结构具有大致相同的图案。

9.根据权利要求8所述的集成电感，其特征在于，所述的相同的图案包含八边形和螺旋形。

10.根据权利要求1所述的集成电感，其特征在于，所述的线圈更包含铝金属层，通过第二线形通孔结构连接所述的第二金属层。

11.根据权利要求10所述的集成电感，其特征在于，所述的第二线形通孔结构镶嵌至第四绝缘层，所述的第四绝缘层位于所述的第二绝缘层之上，并与在所述的第四绝缘层上图案化的所述的铝金属层成为一个整体。

12.根据权利要求11所述的集成电感，其特征在于，所述的第四绝缘层包含氧化硅，氮化硅，碳化硅，氮氧化硅以及聚合物。

13.根据权利要求1所述的集成电感，其特征在于，所述的第二金属层包含铝。

14.根据权利要求13所述的集成电感，其特征在于，所述的第一线形通孔结构与于所述的第一绝缘层上图案化的所述的铝金属层成为一个整体。

15.根据权利要求1所述的集成电感，其特征在于，所述的第一线形通孔结构或者所述的第二线形通孔结构具有片段线形通孔结构。