[发明专利]具有接地构件完整性指示器的等离子体处理室及其使用方法

说明书

技术领域

本发明的实施例一般涉及用于等离子体加工基板的方法和装置，更加特定地，涉及具有接地构件完整性指示器的等离子体处理室及其使用方法。

背景技术

液晶显示器或平板通常用于诸如计算机和电视监视器的有源矩阵显示器。一般，平板包括具有夹在其中的一层液晶材料的两个平板。至少一个平板包括设置在其上并且与功率源连接的至少一个导电薄膜。从功率源施加到导电薄膜的功率改变液晶材料的取向，产生图案显示。

为了制备这些显示器，诸如玻璃或聚合物工件的基板通常经历多个连续工序以在基板上产生器件、导体和绝缘体。这些工序的每一个通常在用于执行生成工序的单一步骤的处理室中执行。为了有效完成处理步骤的整个序列，通常将多个处理室连接到中央传送室，中央传送室容纳了利于在处理室之间传送基板的机械手。具有这种配置的处理平台一般称为多腔集成设备(cluster tool)，其示例是由加利加利佛尼亚州圣克拉拉市的AKT America公司提供的AKT等离子体增强化学气相沉积(PECVD)处理平台系列。

由于平板需求增加，大尺寸基板的需求也增加了。例如，最近几年用于平板制备的大面积基板的面积从550mm×650mm增加到超过2平方米，而且预计不久将来尺寸将持续增加。大面积基板尺寸的这种增长使处理和制备面临新的挑战。例如，基板的更大表面积需要增加基板支架的接地能力。在传统系统上，多个柔性导电条带提供基板支架和室体之间的接地通路。由于从处理室的外部不易于观察到接地条带(ground strap)，即使一个或多个条带破裂，操作员也经常不能察觉。如果足够多的条带破裂，处理结果可能不符合规格，导致缺陷。虽然一个条带的破裂不是灾难性的，但是条带破裂会影响处理均匀性。由此，发明人认识到为了保持稳健处理需要监控基板支架接地的有效性。

因此，需要具有接地构件完整性指示器的改进的等离子体处理室及其使用方法。

发明内容

本发明提供了用于监控在等离子体处理室中接地构件的完整性的方法和装置，该接地构件用于将基板支架连接到诸如接地的室体的地上。在一个实施例中，提供了包括连接在基板支架和室体之间的接地通路构件的处理室。传感器定位以感应表示通过接地构件的电流的测度。

在另一实施例中，处理室包括连接在基板支架和室体之间的多个接地条带。提供了多个传感器。传感器定位以感应表示相应一个接地条带的条带完整性的测度。

在另一实施例中，用于监控在等离子体处理室中将基板支架连接到室体的接地构件的完整性的方法包括在处理期间监控表示通过接地构件的电流的完整性的测度、响应超过预定阀值的测度而设定标识。

在另一实施例中，用于处理基板的方法包括在真空处理室中对布置在基板支架上的基板进行等离子体处理、在处理期间监控将基板支架连接到接地的接地构件的完整性。

附图说明

出于获得并详细理解本发明的上述特征的方式，参考在附图中描述的实施例可获得上面概述的本发明的更加具体的描述。

图1是具有释放电路(dechuking circuit)的等离子体增强化学气相沉积系统的一个实施例的横截面视图；

图2是用于释放基板的方法的一个实施例的流程图；

图3是具有释放电路的等离子体增强化学气相沉积系统的另一实施例的横截面视图；

图4是具有释放电路的等离子体增强化学气相沉积系统的另一实施例的横截面视图；以及

图5是具有释放电路的等离子体增强化学气相沉积系统的另一实施例的横截面视图。

为了便于理解，尽可能地使用相同附图标记表示附图中共有的相同元件。然而，需要指出的是，附图仅描述本发明的典型实施例，由于本发明可以容纳其它等效实施例，不能认为附图限制了本发明的范围。

具体实施方式

本发明一般涉及等离子体处理室和用于在等离子体处理系统中监控将基板支架连接到室体的接地构件的完整性的方法。虽然在大面积基板处理系统中示范描述、示出和实现本发明，本发明也可以在其它等离子体处理室中具有效用，该其它等离子体处理室需要保证一个或多个接地通路在便于室内达到可接受的处理水平上保持功能。

图1是具有接地通路完整性传感器160的一个实施例的等离子体增强化学气相沉积系统100的一个实施例的横截面视图。接地通路完整性传感器160便于监控连接在基板支架组件138和室体102之间的接地通路的有效性。预计接地通路完整性传感器160及其使用方法的实施例，以及其派生物，可以用于其它处理系统，包括来自其它生产商的那些系统。