[发明专利]具有接地构件完整性指示器的等离子体处理室及其使用方法有效
申请号: | 200710165337.8 | 申请日: | 2007-10-26 |
公开(公告)号: | CN101187013A | 公开(公告)日: | 2008-05-28 |
发明(设计)人: | 约翰·M·怀特;卡尔·索伦森 | 申请(专利权)人: | 应用材料股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/52;H01L21/02 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐金国;梁挥 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 接地 构件 完整性 指示器 等离子体 处理 及其 使用方法 | ||
1.一种处理室,包括:
室体;
设置在室体中的基板支架;
连接在基板支架和室体之间的接地通路构件;
定位以感应表示流过接地通路构件的电流的测度的传感器。
2.根据权利要求1所述的处理室,其特征在于,接地通路构件还包括柔性条带。
3.根据权利要求1所述的处理室,其特征在于,接地通路构件还包括:
可在从基板支架分离的第一位置和与基板支架接触的第二位置之间移动的杆。
4.根据权利要求1所述的处理室,其特征在于,传感器还包括:
电流传感器。
5.根据权利要求1所述的处理室,其特征在于,传感器设置在室体中。
6.根据权利要求1所述的处理室,其特征在于,传感器设置在室体外部。
7.根据权利要求1所述的处理室,其特征在于,传感器还包括:
用于感应表示接地构件电阻的测度的电阻传感器。
8.一种处理室,包括:
室体;
设置在室体中的基板支架;
连接在基板支架和室体之间的多个接地条带;
多个传感器,每个传感器定位以感应表示各自一个接地条带的条带完整性的测度。
9.根据权利要求8所述的处理室,其特征在于,多个传感器设置在处理室中。
10.根据权利要求9所述的处理室,其特征在于,还包括:
穿过室体形成的真空馈送通路,以及
连接到传感器并穿过馈送通路的多个导线。
11.根据权利要求8所述的处理室,其特征在于,还包括:
连接到至少一个传感器的传感电路,该传感电路包括放大器。
12.根据权利要求8所述的处理室,其特征在于,至少一个传感器还包括:
用于感应表示相关条带的电阻的测度的电阻传感器。
13.根据权利要求8所述的处理室,其特征在于,至少一个传感器还包括:
用于感应表示流过相关条带的电流的测度的电流传感器。
14.一种用于监控在等离子体处理室中将基板支架连接到室体的接地构件的完整性的方法,包括:
监控表示在处理期间流过该接地构件的电流的测度;
当测度的变化超过预定阀值时设定标识。
15.根据权利要求14的方法,其特征在于,设定标识还包括:
确定预定数量的接地通路是否处于开路状态。
16.根据权利要求14的方法,其特征在于,设定标识还包括:
确定预定组合的接地通路是否处于开路状态。
17.根据权利要求14的方法,其特征在于,设定标识还包括:
警告操作员。
18.根据权利要求14的方法,其特征在于,设定标识还包括:
响应标识使等离子体处理室停止运行。
19.一种用于处理基板的方法,包括:
对设置在真空处理室内的基板支架上的基板进行等离子体处理;
在处理期间监控将基板支架连接到接地的接地构件的连续性。
20.根据权利要求19的方法,其特征在于,监控接地构件的连续性还包括感应流过接地构件的电流或监控接地构件的电阻中的至少一种。
21.根据权利要求19的方法,其特征在于,还包括:
当检测到接地构件连续性中的变化时设定标识。
22.根据权利要求19的方法,其特征在于,还包括:
响应接地构件连续性中的变化改变处理设置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料股份有限公司,未经应用材料股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710165337.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:手套机弧形多孔纱嘴
- 下一篇:改进型三爪自动定心卡盘
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的