[发明专利]充电装置和成像装置

权利要求书

1.一种充电装置，用于通过使磁性粒子与待充电构件接触来为所述待充电构件进行充电，所述充电装置包括：

磁性粒子承载构件，用于通过磁力承载磁性粒子；

其中，所述磁性粒子承载构件在其纵向端部处设有绝缘部分，用于与由所述磁性粒子承载构件承载的磁性粒子电绝缘；以及

导电构件，用于与承载在所述绝缘部分上的磁性粒子接触，

其中，所述导电构件的电位的绝对值小于施加到所述磁性粒子承载构件上的电压的绝对值。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述导电构件的电位的绝对值不大于100V。

3.根据权利要求1所述的装置，其中，所述导电构件电接地。

4.根据权利要求1所述的装置，其中，所述导电构件由磁性材料制成。

5.根据权利要求1所述的装置，其中，在所述磁性粒子承载构件的纵向上，所述导电构件仅与位于所述绝缘部分内侧的磁性粒子接触。

6.根据权利要求1所述的装置，其中，所述导电构件设置在一边界部分处，所述边界部分位于所述磁性粒子承载构件上承载有磁性粒子的区域和未承载磁性粒子的区域之间。

7.一种充电装置，用于通过使磁性粒子与待充电构件接触来为所述待充电构件进行充电，所述充电装置包括：

磁性粒子承载构件，用于通过磁力承载磁性粒子；

磁性粒子调节构件，用于调节承载在所述磁性粒子承载构件上的磁性粒子的量，

其中，所述磁性粒子承载构件在其纵向端部处设有第一绝缘部分，用于与由所述磁性粒子承载构件承载的磁性粒子电绝缘，并且

在至少与所述第一绝缘部分相对的区域，所述磁性粒子调节构件设有第二绝缘部分，用于与磁性粒子电绝缘。

8.根据权利要求7所述的装置，其中，所述磁性粒子承载构件具有用于通过磁力来承载磁性粒子的磁性粒子承载区域，所述第二绝缘部分从所述磁性粒子承载区域的内侧延伸到其外侧。

9.根据权利要求7所述的装置，其中，在所述磁性粒子调节构件的纵向上，所述第二绝缘部分在所述磁性粒子调节构件的整个区域上延伸。

10.根据权利要求7所述的装置，其中，所述磁性粒子调节构件由绝缘材料制成。

11.根据权利要求7所述的装置，还包括导电构件，其布置成与承载在所述第一绝缘部分上的磁性粒子接触，其中，所述导电构件的电位的绝对值低于施加到所述磁性粒子承载构件上的电压的绝对值。

12.根据权利要求11所述的装置，其中，所述导电构件的电位的绝对值不大于100V。

13.根据权利要求11所述的装置，其中，所述导电构件电接地。

14.根据权利要求11所述的装置，其中，所述导电构件由磁性材料制成。

15.根据权利要求11所述的装置，其中，在所述磁性粒子承载构件的纵向上，所述导电构件仅与位于所述绝缘部分内侧的磁性粒子接触。

16.根据权利要求11所述的装置，其中，所述导电构件设置在一边界部分处，所述边界部分位于所述磁性粒子承载构件上承载有磁性粒子的区域和未承载磁性粒子的区域之间。

17.一种成像装置，包括：

图像承载构件，其是待充电的构件；以及

充电装置，用于通过使磁性粒子与所述待充电构件接触来为所述待充电构件进行充电，

其中，所述充电装置是权利要求1-16中任一项所述的充电装置。