[发明专利]清洗装置与废水处理设备无效

专利信息
申请号: 200710141156.1 申请日: 2007-08-13
公开(公告)号: CN101367082A 公开(公告)日: 2009-02-18
发明(设计)人: 陈志松;李俨辉 申请(专利权)人: 力晶半导体股份有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B3/08;B08B13/00;C11D7/08;C11D7/06;C02F1/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 清洗 装置 废水处理 设备
【权利要求书】:

1.一种清洗装置,适用于清洗检测器的检测电极,包括:

支撑单元,支撑该检测电极,使该检测电极置于该支撑单元内部;

清洗单元,包括多个喷洒构件,所述喷洒构件设置于该支撑单元中;以及

升降单元,连接该检测电极,其中该升降单元升起该检测电极之后,从所述喷洒构件喷出清洗液以清洗该检测电极。

2.如权利要求1所述的清洗装置,其中该清洗单元还包括:

清洗液储存槽,连接所述喷洒构件,用以供给清洗液至所述喷洒构件。

3.如权利要求2所述的清洗装置,其中该清洗单元还包括空气管路,连接该清洗液储存槽,用以对该清洗液施加压力。

4.如权利要求1所述的清洗装置,其中各所述喷洒构件包括管状体,其中各所述管状体上具有多个喷嘴,经由所述喷嘴将该清洗液喷洒至该检测电极表面。

5.如权利要求1所述的清洗装置,其中所述喷洒构件配置成环绕该检测电极。

6.如权利要求1所述的清洗装置,其中该清洗液包括盐酸或氢氧化钠。

7.如权利要求8所述的清洗装置,其中盐酸的浓度包括5%。

8.如权利要求8所述的清洗装置,其中氢氧化钠的浓度包括1%。

9.如权利要求1所述的清洗装置,其中该升降单元包括:

固定部,设置于该支撑单元上方,用以固定该检测电极;以及

气压式升降杆,连接该固定部,通过升降该固定部,而升降该检测电极。

10.如权利要求9所述的清洗装置,其中该气压式升降杆还包括气压缸。

11.如权利要求1所述的清洗装置,其中该检测器包括酸碱度检测器、电导度检测器、溶氧度检测器或浊度检测器。

12.如权利要求1所述的清洗装置,其中该支撑单元包括侧壁具有孔洞的管状体或纵剖管状体。

13.一种废水处理设备,包括:

反应槽;

搅拌器,配置于该反应槽中;

检测器,包括检测电极,用以探测该反应槽中的废水的水质;以及

清洗装置,用以清洗该检测电极,该清洗装置包括:

支撑单元,配置于该反应槽中,以支撑该检测电极;

清洗单元,包括多个喷洒构件,所述喷洒构件设置于该支撑单元中;

以及

升降单元,连接该检测电极,其中该升降单元升起该检测电极之后,

从所述喷洒构件喷出清洗液以清洗该检测电极。

14.如权利要求13所述的废水处理设备,其中该清洗单元包括:

清洗液储存槽,连接所述喷洒构件,用以供给清洗液至所述喷洒构件。

15.如权利要求13所述的废水处理设备,其中各所述喷洒构件包括管状体,其中各所述管状体上具有多个喷嘴,经由所述喷嘴将该清洗液喷洒至该检测电极表面。

16.如权利要求13所述的废水处理设备,其中所述喷洒构件配置成环绕该检测电极。

17.如权利要求13所述的废水处理设备,其中该清洗液包括盐酸或氢氧化钠。

18.如权利要求13所述的废水处理设备,其中该清洗单元还包括空气管路,连接该清洗液储存槽,用以对该清洗液施加压力。

19.如权利要求13所述的清洗装置,其中该升降单元包括:

固定部,设置于该支撑单元上方,用以固定该检测电极;以及

气压式升降杆,连接该固定部,通过升降该固定部,而升降该检测电极。

20.如权利要求13所述的清洗装置,其中该气压式升降杆还包括气压缸。

21.如权利要求13所述的清洗装置,其中该检测器包括酸碱度检测器、电导度检测器、溶氧度检测器或浊度检测器。

22.如权利要求13所述的废水处理设备,其中该搅拌器包括推进器式搅拌器、桨式搅拌器或轮机式搅拌器。

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