[发明专利]清洗装置与废水处理设备无效
申请号: | 200710141156.1 | 申请日: | 2007-08-13 |
公开(公告)号: | CN101367082A | 公开(公告)日: | 2009-02-18 |
发明(设计)人: | 陈志松;李俨辉 | 申请(专利权)人: | 力晶半导体股份有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B3/08;B08B13/00;C11D7/08;C11D7/06;C02F1/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗 装置 废水处理 设备 | ||
1.一种清洗装置,适用于清洗检测器的检测电极,包括:
支撑单元,支撑该检测电极,使该检测电极置于该支撑单元内部;
清洗单元,包括多个喷洒构件,所述喷洒构件设置于该支撑单元中;以及
升降单元,连接该检测电极,其中该升降单元升起该检测电极之后,从所述喷洒构件喷出清洗液以清洗该检测电极。
2.如权利要求1所述的清洗装置,其中该清洗单元还包括:
清洗液储存槽,连接所述喷洒构件,用以供给清洗液至所述喷洒构件。
3.如权利要求2所述的清洗装置,其中该清洗单元还包括空气管路,连接该清洗液储存槽,用以对该清洗液施加压力。
4.如权利要求1所述的清洗装置,其中各所述喷洒构件包括管状体,其中各所述管状体上具有多个喷嘴,经由所述喷嘴将该清洗液喷洒至该检测电极表面。
5.如权利要求1所述的清洗装置,其中所述喷洒构件配置成环绕该检测电极。
6.如权利要求1所述的清洗装置,其中该清洗液包括盐酸或氢氧化钠。
7.如权利要求8所述的清洗装置,其中盐酸的浓度包括5%。
8.如权利要求8所述的清洗装置,其中氢氧化钠的浓度包括1%。
9.如权利要求1所述的清洗装置,其中该升降单元包括:
固定部,设置于该支撑单元上方,用以固定该检测电极;以及
气压式升降杆,连接该固定部,通过升降该固定部,而升降该检测电极。
10.如权利要求9所述的清洗装置,其中该气压式升降杆还包括气压缸。
11.如权利要求1所述的清洗装置,其中该检测器包括酸碱度检测器、电导度检测器、溶氧度检测器或浊度检测器。
12.如权利要求1所述的清洗装置,其中该支撑单元包括侧壁具有孔洞的管状体或纵剖管状体。
13.一种废水处理设备,包括:
反应槽;
搅拌器,配置于该反应槽中;
检测器,包括检测电极,用以探测该反应槽中的废水的水质;以及
清洗装置,用以清洗该检测电极,该清洗装置包括:
支撑单元,配置于该反应槽中,以支撑该检测电极;
清洗单元,包括多个喷洒构件,所述喷洒构件设置于该支撑单元中;
以及
升降单元,连接该检测电极,其中该升降单元升起该检测电极之后,
从所述喷洒构件喷出清洗液以清洗该检测电极。
14.如权利要求13所述的废水处理设备,其中该清洗单元包括:
清洗液储存槽,连接所述喷洒构件,用以供给清洗液至所述喷洒构件。
15.如权利要求13所述的废水处理设备,其中各所述喷洒构件包括管状体,其中各所述管状体上具有多个喷嘴,经由所述喷嘴将该清洗液喷洒至该检测电极表面。
16.如权利要求13所述的废水处理设备,其中所述喷洒构件配置成环绕该检测电极。
17.如权利要求13所述的废水处理设备,其中该清洗液包括盐酸或氢氧化钠。
18.如权利要求13所述的废水处理设备,其中该清洗单元还包括空气管路,连接该清洗液储存槽,用以对该清洗液施加压力。
19.如权利要求13所述的清洗装置,其中该升降单元包括:
固定部,设置于该支撑单元上方,用以固定该检测电极;以及
气压式升降杆,连接该固定部,通过升降该固定部,而升降该检测电极。
20.如权利要求13所述的清洗装置,其中该气压式升降杆还包括气压缸。
21.如权利要求13所述的清洗装置,其中该检测器包括酸碱度检测器、电导度检测器、溶氧度检测器或浊度检测器。
22.如权利要求13所述的废水处理设备,其中该搅拌器包括推进器式搅拌器、桨式搅拌器或轮机式搅拌器。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于力晶半导体股份有限公司,未经力晶半导体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710141156.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:找到正确的服务网关的方法
- 下一篇:石材装饰板