[发明专利]彩色滤光片的制造方法无效
| 申请号: | 200710140973.5 | 申请日: | 2007-08-15 |
| 公开(公告)号: | CN101369097A | 公开(公告)日: | 2009-02-18 |
| 发明(设计)人: | 蔡怀萱;欧富国 | 申请(专利权)人: | 联华电子股份有限公司;联诚光电股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G02B5/23 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
| 地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 彩色 滤光 制造 方法 | ||
1.一种彩色滤光片的制造方法,包括:
提供基板,该基板包括第一区与第二区;
在该第一区上依序形成第一彩色滤光膜与第一掩模层;
在该基板上形成第二彩色滤光膜,以覆盖该第一掩模层与该第二区的基板表面;
在该第二区的该第二彩色滤光膜上形成第二掩模层;
蚀刻该第一区上以及该第一掩模层与该第二掩模层之间的该第二彩色滤光膜;以及
移除该第一掩模层与该第二掩模层。
2.如权利要求1所述的彩色滤光片的制造方法,其中该第一掩模层包括光刻胶层。
3.如权利要求1所述的彩色滤光片的制造方法,其中该第二掩模层包括有机材料层或是缓冲层。
4.如权利要求1所述的彩色滤光片的制造方法,其中该第一彩色滤光膜与该第二彩色滤光膜是选自于TiO2、Ta2O5、SiO2、RuxOy、ZnS、MgF2组合的族群的堆叠层。
5.如权利要求1所述的彩色滤光片的制造方法,其中该基板还包括第三区,使该第一区介于该第二区与该第三区之间,且该方法还包括:
在该第一彩色滤光膜与该第二彩色滤光膜上形成第三掩模层;
在该基板上形成第三彩色滤光膜,以覆盖该第三掩模层与该第三区的该基板表面;
在该第三区的该第三彩色滤光膜上形成第四掩模层;
回蚀刻该第三彩色滤光膜,以去除该第三掩模层上以及该第三与该第四掩模层之间的该第三彩色滤光膜;以及
移除该第三、该第四掩模层。
6.如权利要求5所述的彩色滤光片的制造方法,其中该第三掩模层包括光刻胶层。
7.如权利要求5所述的彩色滤光片的制造方法,其中该第四掩模层包括有机材料层或是缓冲层。
8.如权利要求5所述的彩色滤光片的制造方法,其中该第三彩色滤光膜是选自于TiO2、Ta2O5、SiO2、RuxOy、ZnS、MgF2组合的族群的堆叠层。
9.如权利要求1所述的彩色滤光片的制造方法,其中该基板还包括第三区,使该第一区介于该第二区与该第三区之间,且该方法还包括:
在该第一彩色滤光膜与该第二彩色滤光膜上形成中间层;
在该基板上形成第三彩色滤光膜,以覆盖该中间层与该第三区的该基板表面;
在该第三区的该第三彩色滤光膜上形成第三掩模层;
回蚀刻该第三彩色滤光膜,以去除该中间层上以及该第三掩模层与该中间层之间的该第三彩色滤光膜;以及
移除该第三掩模层以及该中间层。
10.如权利要求9所述的彩色滤光片的制造方法,其中该第三掩模层包括有机材料层或是缓冲层。
11.如权利要求9所述的彩色滤光片的制造方法,其中该中间层的材料包括氧化硅或是旋涂式玻璃。
12.如权利要求9所述的彩色滤光片的制造方法,其中该第三彩色滤光膜是选自于TiO2、Ta2O5、SiO2、RuxOy、ZnS、MgF2组合的族群的堆叠层。
13.如权利要求1所述的彩色滤光片的制造方法,其中该基板还包括第三区,使该第一区介于该第二区与该第三区之间,且该方法还包括:
在该第一彩色滤光膜与该第二彩色滤光膜上形成第三掩模层;
在该基板上形成第三彩色滤光膜,以覆盖该第三掩模层与该第三区的该基板表面;
进行剥除工艺,以移除该第三掩模层及其上的该第三彩色滤光膜,留下该第三区上的该第三彩色滤光膜与边缘突起;
在该第一、该第二与该第三彩色滤光膜上形成第四掩模层,裸露出该边缘突起;
以该第四掩模层为掩模,蚀刻去除该边缘突起;以及
移除该第四掩模层。
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