[发明专利]挥发性有机化合物处理装置有效

专利信息
申请号: 200710139977.1 申请日: 2005-06-29
公开(公告)号: CN101108298A 公开(公告)日: 2008-01-23
发明(设计)人: 太田幸治;葛本昌树;谷村泰宏;中谷元;吉積敏昭;市村英男 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: B01D53/44 分类号: B01D53/44;B01D53/72;B01D53/04;B01J19/08
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王以平
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 挥发性 有机化合物 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种挥发性有机化合物处理装置,其特征在于,具备:

作为电介质的吸附体,该吸附体与处理对象气体接触以吸附挥发性有机化合物,并且以规定的气孔率形成处理对象气体流过的规定直径的孔而构成;以及

以在其间夹有该吸附体的方式配置的施加交流电压的电极对。

2.一种挥发性有机化合物处理装置,其特征在于,具备:

吸附体,该吸附体与处理对象气体接触以吸附挥发性有机化合物,具有处理对象气体通过的气体通路,并将该气体通路的壁面作为电介质来形成;以及

以在其间夹有该吸附体并使在与气体通路的壁面交叉的方向上发生放电的方式配置的施加交流电压的电极对。

3.如权利要求1或2所述的挥发性有机化合物处理装置,其特征在于:

具备气体返回机构,该机构在放电发生时和其后的规定期间内使气体朝与处理对象气体的流动相反的方向流过所述吸附体。

4.如权利要求1或2所述的挥发性有机化合物处理装置,其特征在于,具备:

气体处理单元,具有在其中容纳所述吸附体和所述电极对的可密闭的隔室;以及

气体返回机构,在放电发生后的规定的期间内使被其它的所述气体处理单元处理过的已处理气体在与处理对象气体的流动相反的方向上流过在放电发生时密闭的所述隔室。

5.如权利要求1或2所述的挥发性有机化合物处理装置,其特征在于:

至少与某一个所述电极邻接地配置所述吸附体,且具有

为了以热的方式和电的方式与邻接于所述吸附体的所述电极结合而在所述吸附体与所述电极之间设置的供电层。

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