[发明专利]研磨机台、承载治具及承载治具的操作方法有效
| 申请号: | 200710139085.1 | 申请日: | 2007-07-25 |
| 公开(公告)号: | CN101077566A | 公开(公告)日: | 2007-11-28 |
| 发明(设计)人: | 陈弘国 | 申请(专利权)人: | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号: | B24B7/24 | 分类号: | B24B7/24;B24B41/06 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 赵燕力 |
| 地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 研磨 机台 承载 操作方法 | ||
技术领域
本发明是有关于一种承载治具及其操作方法,且特别是有关于一种置放基板以供进行研磨工艺的承载治具及其操作方法。
背景技术
一般在液晶显示器的制造过程中,通常会将液晶显示器中的玻璃基板先进行研磨工艺的处理,以避免后续的工艺受到玻璃基板应力集中的影响。一般常见用以置放玻璃基板的承载治具,均是由一定盘(stage)承载一定尺寸的玻璃基板来进行研磨工艺。然而,由于定盘为固定尺寸,此时若有不同尺寸的基板需进行研磨工艺,则必须更换相对应的定盘,如此一来便需增加额外的定盘费用。此外,由于定盘需要由手动更换,不但会浪费许多时间,而且也有可能在更换之后造成其水平度不佳的情形,使得研磨的精准度偏移太多。
因此,有必要提出一种承载治具,以节省定盘更换的时间及费用,并减少定盘在更换之后可能造成水平度偏移的情形发生,让操作者在更换不同尺寸的基板进行研磨工艺时,可更有效率且方便地操作。
发明内容
本发明的目的在于提供一种研磨机台、承载治具及承载治具的操作方法,可依基板的尺寸调整宽度,并可依工艺需求旋转基板。
本发明的一技术方案是关于一种承载治具,该承载治具供置放一承载物,其包含一中央平台、一第一托盘以及一第二托盘。第一托盘以及第二托盘均用以辅助支撑承载物,并分别设置于中央平台的二侧,且各自于邻近中央平台的一侧呈相对应的互补结构,由相对地移动调整以辅助支撑承载物。
本发明的另一技术方案是关于一种研磨机台,该研磨机台包含一承载治具以及二研磨砂轮。承载治具供置放一基板,并包含一中央平台以及二托盘,其中二托盘用以辅助支撑基板,并分别设置于中央平台的二侧,且各自于邻近中央平台的一侧呈相对应的互补结构,由相对地移动调整以辅助支撑基板。而二研磨砂轮则是分别设置于承载治具的二侧。
本发明的另一技术方案是关于一种如上述承载治具的操作方法,其包含下列步骤:移动调整第一托盘以及第二托盘至一第一支撑宽度,使得第一托盘以及第二托盘各别辅助支撑承载物的一第一边;升上中央平台以抬高承载物;旋转中央平台以改变承载物的置放方向;移动调整第一托盘以及第二托盘至一第二支撑宽度;以及降下中央平台以放低承载物,使得第一托盘以及第二托盘各别辅助支撑承载物的一第二边。
由上所述,根据本发明的技术内容,应用前述承载治具及其操作方法可减少已知定盘更换的费用及时间,并更有弹性地对不同尺寸的基板进行研磨工艺。
附图说明
图1A:本发明实施例的一种研磨机台的俯视图。
图1B:如体1A所示的研磨机台的侧视图。
图1C:本发明的另一种研磨机台实施例的俯视图。
图2A:如图1A所示的研磨机台中,中央平台上升及旋转且两托盘相对地移动调整后的俯视图。
图2B:如图2A所示的研磨机台的侧视图。
图2C:如图2B所示的研磨机台其中央平台下降后的侧视图。
图3:如图1A所示的研磨机台中承载治具的操作方法的流程图。
附图标号:
100:研磨机台 112:第二托盘
102:承载治具 114:缺口部
104:研磨砂轮 116:真空孔洞
106:承载物 118:凸缘
108、108a:中央平台 120:凹槽
110:第一托盘 122:电荷耦合装置
300~312:步骤
具体实施方式
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