[发明专利]研磨机台、承载治具及承载治具的操作方法

权利要求书

1.一种承载治具，供置放一承载物，其特征在于该承载治具包含：

一中央平台；

一第一托盘，用以辅助支撑该承载物；

一第二托盘，用以辅助支撑该承载物，其中该第一托盘以及该第二托盘分别设置于所述中央平台的二侧，并各自于邻近该中央平台的一侧呈相对应的互补结构，且该第一托盘以及该第二托盘是由相对地移动调整以辅助支撑该承载物。

2.如权利要求1所述的承载治具，其特征在于：该第一托盘以及该第二托盘在对应该中央平台之处各具有一缺口部，该缺口部比该第一托盘以及该第二托盘其它用以辅助支撑该承载物的部分短小。

3.如权利要求1所述的承载治具，其特征在于：该第一托盘以及该第二托盘是由相对地移动调整至一支撑宽度以分别辅助支撑该承载物的一短边。

4.如权利要求1所述的承载治具，其特征在于：该第一托盘以及该第二托盘是由相对地移动调整至一支撑宽度以分别辅助支撑该承载物的一长边。

5.如权利要求1所述的承载治具，其特征在于：该第一托盘以及该第二托盘至少其中之一托盘的表面密布孔洞。

6.如权利要求1所述的承载治具，其特征在于：该中央平台呈一圆形结构或一“十”字形结构。

7.如权利要求1所述的承载治具，其特征在于：该第一托盘以及该第二托盘所呈现的相对应的互补结构分别为一齿状结构。

8.如权利要求7所述的承载治具，其特征在于：该第一托盘以及该第二托盘各自呈现的该齿状结构包含相对应的凸缘以及凹槽结构，以在相对地移动调整后使得各自呈现的该齿状结构相互配合以辅助支撑该承载物。

9.一种研磨机台，其特征在于该研磨机台包含：

一承载治具，供置放一基板，承载治具包含：

一中央平台；

二托盘，用以辅助支撑该基板，并分别设置于该中央平台的二侧且各自于邻近该中央平台的一侧呈相对应的互补结构，该些托盘是由相对地移动调整以辅助支撑该基板；

二研磨砂轮，分别设置于该承载治具的二侧。

10.如权利要求9所述的研磨机台，其特征在于：该些托盘在对应该中央平台之处各具有一缺口部，该缺口部比该些托盘其它用以辅助支撑该基板的部分短小。

11.如权利要求9所述的研磨机台，其特征在于：该些托盘是由相对地移动调整至一支撑宽度以分别辅助支撑该承载物的一短边。

12.如权利要求9所述的研磨机台，其特征在于：该些托盘是由相对地移动调整至一支撑宽度以分别辅助支撑该承载物的一长边。

13.如权利要求9所述的研磨机台，其特征在于：该些托盘的表面均密布孔洞。

14.如权利要求9所述的研磨机台，其特征在于：该中央平台呈一圆形结构或一“十”字形结构。

15.如权利要求9所述的研磨机台，其特征在于：该些托盘所呈现的相对应的互补结构分别为一齿状结构。

16.如权利要求15所述的研磨机台，其特征在于：该些托盘各自呈现的该齿状结构包含相对应的凸缘以及凹槽结构，以在相对地移动调整后使得各自呈现的该齿状结构相互配合以辅助支撑该承载物。

17.如权利要求9所述的研磨机台，其特征在于该研磨机台更包含：

二电荷耦合装置，分别设置于该承载治具的二侧，用以侦测该基板的置放方向是否发生偏移。

18.一种如权利要求1所述的承载治具的操作方法，该方法包含：

移动调整该第一托盘以及该第二托盘至一第一支撑宽度，使得该第一托盘以及该第二托盘分别辅助支撑该承载物的一第一边；

升上该中央平台以抬高该承载物；

旋转该中央平台以改变该承载物的置放方向；

移动调整该第一托盘以及该第二托盘至一第二支撑宽度；

降下该中央平台以放低该承载物，使得该第一托盘以及该第二托盘分别辅助支撑该承载物的一第二边。

19.如权利要求18所述的操作方法，其特征在于该方法更包含：

侦测判别该承载物的置放方向是否偏移；

当该承载物的置放方向偏移时，旋转该中央平台以修正该承载物的置放方向。