[发明专利]蚀刻装置和蚀刻方法

权利要求书

1.一种蚀刻装置，包括：

具有一空间的蚀刻轨，至少一个目标物通过该空间移动，其中该空间含有蚀刻溶液以蚀刻在该空间中的该目标物，且该蚀刻轨相对于地面的斜率是可调的；以及

溶液供应器，其提供蚀刻溶液到该蚀刻轨。

2.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其中该蚀刻轨包括：

底表面；以及

从所述底表面延伸的多个侧壁。

3.根据权利要求2所述的蚀刻装置，其中该蚀刻轨还包括引导部件，所述引导部件支承该目标物的末端部分且将该目标物与该底表面分隔开预定距离。

4.根据权利要求3所述的蚀刻装置，其中该引导部件包括：

第一引导部件，其支承该目标物的第一末端部分；以及

第二引导部件，其支承该目标物的第二末端部分，且面对该第一末端部分。

5.根据权利要求3所述的蚀刻装置，其中该空间含有多个目标物，且该目标物沿与该蚀刻轨的长度方向垂直的方向布置在该空间中。

6.根据权利要求5所述的蚀刻装置，其中该目标物包括第一和第二目标物，且

该引导部件包括：

第一和第二引导部件，彼此面对且分别支承该第一目标物的两个末端部分；以及

第三和第四引导部件，彼此面对且分别支承该第二目标物的两个末端部分。

7.根据权利要求2所述的蚀刻装置，其中该蚀刻轨还包括面对该底表面的顶表面。

8.根据权利要求1所述的蚀刻装置，还包括：

溶液回收器，容纳从该蚀刻轨排出的蚀刻溶液；以及

泵，从该溶液回收器提供蚀刻溶液到该溶液供应器。

9.根据权利要求1所述的蚀刻装置，其中目标物移动的方向基本平行于所述空间中该蚀刻轨的斜面。

10.一种蚀刻方法，包括：

提供蚀刻溶液在蚀刻轨中；

调节该蚀刻轨相对于地面的斜率；

输入目标物到该蚀刻轨中；以及

利用该蚀刻溶液蚀刻该目标物。

11.根据权利要求10所述的蚀刻方法，在调节该蚀刻轨的斜率之后，还包括连续地从该蚀刻轨排出蚀刻溶液和提供蚀刻溶液到该蚀刻轨从而在该蚀刻轨中循环蚀刻溶液。

12.一种蚀刻装置，包括：

固定部件，其将目标物定位在垂直于地面的方向上；以及

接收和储存蚀刻溶液的喷嘴单元，其中该喷嘴单元设置在该目标物之上，且包括溶液容器和体，该体包括容纳该溶液容器的空间以及出口，该出口将从该溶液容器溢出的蚀刻溶液排出到外部使得该蚀刻溶液提供到该目标物。

13.根据权利要求12所述的蚀刻装置，其中该体包括：

顶表面；

侧壁，从该顶表面延伸以形成所述空间；以及

底表面，其部分开口以形成所述出口。

14.根据权利要求13所述的蚀刻装置，其中该侧壁从该顶表面向下变窄。

15.根据权利要求12所述的蚀刻装置，其中该出口与所述目标物对应地定位。

16.根据权利要求12所述的蚀刻装置，其中该固定部件包括：

接收器，具有接收该目标物的空间、顶表面、以及底表面，该顶表面具有与该喷嘴单元相邻的开放部分使得该蚀刻溶液通过该顶表面的开放部分提供到所述目标物，该底表面具有开放部分使得该蚀刻溶液通过该底表面的开放部分排出；

至少一个支承件，其与该接收器耦合且支承该目标物的末端部分；以及拾取单元，其与该接收器耦合且将该接收器定位在垂直于地面的方向上。

17.根据权利要求16所述的蚀刻装置，其中该接收器包括：

第一侧板；

第一框架，从该第一侧板的第一末端部分延伸；

第二框架，与该第一框架分隔开预定距离且从该第一侧板的第二末端部分延伸以面对该第一框架；以及

第二侧板，连接到该第一和第二框架且面对该第一侧板，其中该目标物定位在该第一框架和该第二框架之间。