[发明专利]存储器存取方法有效

专利信息
申请号: 200710137364.4 申请日: 2007-07-20
公开(公告)号: CN101350219A 公开(公告)日: 2009-01-21
发明(设计)人: 洪俊雄;何文乔;张坤龙 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: G11C7/22 分类号: G11C7/22
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 谢强;黄小临
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 存储器 存取 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种存储器存取方法,且特别是涉及一种利用全新存取存 储器的方法以节省存储器存取时间及功率消耗的存储器存取方法。

背景技术

存储器应用于现今的多种数据储存的用途。存储器包括多种型式,例 如为多位单元(Multi-Bit Cell,MBC)存储器或多层单元(Multi-Level Cell, MLC)存储器等。请参照图1A,其示出了传统多位单元的示意图。如图1A 所示,多位单元100的左半单元(left half cell)为位A,多位单元100的右半 单元(right half cell)为位B。请参照图1B,其示出了传统多层单元的临界电 压的分布图。其中,(层0,层1,层2,层3)通常被定义为(11,10,01, 00)。

存储器还包括将多层单元技术结合在多位单元技术中的存储器。请参 照图1C,其示出了传统存储单元的示意图。存储单元110的左半单元包括 位A及位B,存储单元110的右半单元包括位C及位D。当要读取上述的 存储单元110所储存的数据时,必须以不同的字线电压使能存储单元110 三次,才能借助于不同的参考电压正确判断存储单元110所储存的数据。 如此一来,不仅浪费存储器存取时间,同时也增加功率消耗。

发明内容

本发明涉及一种存储器存取方法,利用新定义的存储单元的临界电压 分布以及全新的操作方法将数据写入存储单元,然后以较简单的步骤来判 断存储单元所储存的数据,节省存储器存取时间及功率消耗。

根据本发明,提出一种存储器存取方法层。存储器包括多个多层单元, 每一个多层单元可储存2n位,n为正整数。此存储器存取方法包括,首先, 分别定义每个多层单元的临界电压为2n层,每一层均对应于一n位的储存 状态,0~2n/2-1层所对应的储存状态的最高效位是不同于2n/2~2n-1层所对 应的储存状态的最高效位。接着,分割一目标数据为n个部分并分别写入n 个暂存存储器。然后,将目标数据的n位写入多层单元,其中每一位是从 每一暂存存储器撷取而得到的。

根据本发明,另提出一种存储器存取方法层。存储器包括多个存储单 元,每个存储单元的临界电压的分布由低至高依次为层0~层3。此存储器 存取方法包括,首先,接收目标数据。接着,将相对应于层1~层3的存储 单元的临界电压从相对应于层0的临界电压提升到相对应于层1的临界电 压。接着,将相对应于层2~层3的存储单元的临界电压从相对应于层1的 临界电压提升到相对应于层2的临界电压。之后,将相对应于层3的存储 单元的临界电压从相对应于层2的临界电压提升到相对应于层3的临界电 压。

根据本发明,另提出一种存储器存取方法层。存储器包括多个多层单 元,每一个多层单元可储存2n位,n为正整数。此存储器存取方法包括, 首先,分别定义每个多层单元的临界电压为2n层,每一层均对应于一n位 的储存状态,0~2n/2-1层所对应的储存状态的最低效位是不同于2n/2~2n-1 层所对应的储存状态的最低效位。接着,分割一目标数据为n个部分并分 别写入n个暂存存储器。然后,将目标数据的n位写入多层单元,其中每 一位是从每一暂存存储器撷取而得到的。

为让本发明的上述内容能更明显易懂,下文特举一较佳实施例,并配 合附图,作详细说明如下。

附图说明

图1A示出传统多位单元的示意图。

图1B示出传统多层单元的临界电压的分布图。

图1C示出传统存储单元的示意图。

图2示出依照本发明较佳实施例的存储器存取方法的流程图。

图3示出依据本发明较佳实施例的存储单元的临界电压的分布。

图4示出依照本发明较佳实施例的数据输入阶段的示意图。

图5示出依照本发明较佳实施例的数据对的配对示意图。

图6示出依照本发明较佳实施例的步阶渐增临界电压的示意图。

图7示出依照本发明较佳实施例的扫描读取电路的电路图。

主要附图标记说明如下:

100:多位单元

110:存储单元

400:存储器

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旺宏电子股份有限公司,未经旺宏电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710137364.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top