[发明专利]发光二极管封装基座单元及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200710136815.2 申请日: 2007-07-17
公开(公告)号: CN101350387A 公开(公告)日: 2009-01-21
发明(设计)人: 罗美育 申请(专利权)人: 宏胜科光电股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L23/488;H01L21/48
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 刘兴鹏;邵伟
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发光二极管 封装 基座 单元 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种发光二极管封装基座单元,包含有由导电材质制成的两个端子、一个金属承座,及一将所述端子固定于该金属承座的树脂,其特征在于:

该金属承座,包括一个供发光二极管设置的二极管设置部、两个分别供所述端子设置的端子设置部,及一层直接形成于所述设置部上的绝缘层。

2.如权利要求1所述的发光二极管封装基座单元,其特征在于:该金属承座的所述端子设置部是在一方向上分别位于该二极管设置部的两侧。

3.如权利要求2所述的发光二极管封装基座单元,其特征在于:该金属承座还包括两个在该方向上分别位于该二极管设置部两侧的辅助固定部。

4.如权利要求3所述的发光二极管封装基座单元,其特征在于:在该方向上,该金属承座的其中一个端子设置部是分别介于该二极管设置部与其中一个辅助固定部之间;而其中另一个端子设置部是分别介于该二极管设置部与其中另一个辅助固定部之间。

5.如权利要求4所述的发光二极管封装基座单元,其特征在于:每一个辅助固定部各是凸出伸入该树脂中。

6.如权利要求5所述的发光二极管封装基座单元,其特征在于:每一个辅助固定部具有一根部段,及一由该根部段凸出延伸的固定段,而该固定段沿该方向上的一最大宽度是大于该根部段沿该方向上的一最大宽度。

7.如权利要求4所述的发光二极管封装基座单元,其特征在于:每一个辅助固定部各是一凹陷形成的凹槽,该树脂填满所述凹槽。

8.如权利要求7所述的发光二极管封装基座单元,其特征在于:每一个辅助固定部具有一槽口段,及一由该槽口段凹陷延伸的固定段,而该固定段沿该方向上的一最大宽度是大于该槽口段沿该方向上的一最大宽度。

9.如权利要求6所述的发光二极管封装基座单元,其特征在于:该金属承座还包括两个在该方向上分别位于该二极管设置部两侧的应力吸收部。

10.如权利要求9所述的发光二极管封装基座单元,其特征在于:在该方向上,该金属承座的其中一个辅助固定部是分别介于该二极管设置部与其中一个应力吸收部之间;而其中另一个辅助固定部是分别介于该二极管设置部与其中另一个应力吸收部之间。

11.如权利要求10所述的发光二极管封装基座单元,其特征在于:每一个应力吸收部各是一凹陷形成的凹槽。

12.如权利要求11所述的发光二极管封装基座单元,其特征在于:该金属承座还包括两个在该方向上分别位于该二极管设置部两侧的连接固定部。

13.如权利要求12所述的发光二极管封装基座单元,其特征在于:每一个连接固定部各是一个螺丝孔。

14.如权利要求1所述的发光二极管封装基座单元,其特征在于:该金属承座是由铝或铝合金制成。

15.如权利要求14所述的发光二极管封装基座单元,其特征在于:该金属承座的絶缘层是经阳极处理直接形成。

16.如权利要求1所述的发光二极管封装基座单元,其特征在于:该树脂只覆盖每一个端子的部分面积。

17.如权利要求16所述的发光二极管封装基座单元,其特征在于:该树脂围绕该二极管设置部形成一个开口。

18.一种发光二极管封装基座单元的制造方法,其特征在于包含下列步骤:

(一)、热挤出成型一个金属粗胚;

(二)、冲压该金属粗胚使成型为一个承座组合体;

(三)、在该承座组合体上直接形成一层絶缘层;

(四)、在一个模具中放置一排导线架及该承座组合体;

(五)、将树脂成型于该导线架与承座组合体上,形成一个半成品;

(六)、将该半成品切断成多个发光二极管封装基座单元。

19.如权利要求18所述的发光二极管封装基座单元的制造方法,其特征在于:该步骤(一)中的金属粗胚是铝或铝合金材质热挤出成型。

20.如权利要求19所述的发光二极管封装基座单元的制造方法,其特征在于:该步骤(三)中的絶缘层是以阳极处理直接形成。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宏胜科光电股份有限公司,未经宏胜科光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710136815.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top