[发明专利]基板的处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及在以规定的角度倾斜的立起状态下搬运基板的同时用处理液或气体等流体进行处理的基板的处理装置。

背景技术

在用于液晶显示装置的玻璃基板上形成电路图案，采用光刻工艺在基板上形成电路图案。众所周知，光刻工艺是在上述基板上涂敷抗蚀剂，对该抗蚀剂隔着形成有电路图案的掩膜照射光。

接着，除去抗蚀剂的没照射光的部分或照射了光的部分，对基板的除去了抗蚀剂的部分进行蚀刻。并且，通过重复多次蚀刻后除去抗蚀剂的一连串的工序，在上述基板上形成电路图案。

在这样的光刻工艺中，上述基板需要如下工序：用显影液、蚀刻液或蚀刻后除去抗蚀剂的剥离液等处理液处理基板的工序；再通过冲洗液清洗的工序；在清洗后用气体除去附着残留在基板上的冲洗液的干燥工序。

过去，对基板进行上述的一连串处理的情况下，用水平配置轴线的搬运辊，将上述基板以大致水平的状态依次向分别进行各种处理的处理腔搬运，在各处理腔中利用处理液进行处理，或在处理后喷射压缩气体来进行干燥处理。

但是，最近用于液晶显示装置的玻璃制基板有大型化及薄型化的倾向。因此，当水平搬运基板时，搬运辊之间的基板挠曲增大，因此，发生各处理腔中的处理不能在基板的板面整体上均匀进行的情况。

而且，若基板大型化，设有搬运该基板的搬运辊的搬运轴变长。并且，通过基板大型化，供给到基板上的处理液增加，与基板上的处理液的量对应地施加在上述搬运轴上的载荷增大，所以由于这些情况而导致搬运轴的挠曲变大。因此，基板还由于搬运轴弯曲而产生挠曲，有时不能进行均匀的处理。

因此，在用处理液处理基板时，为了防止上述基板因处理液的重量而弯曲，所以进行如下处理，即，以规定的倾斜角度、例如从垂直状态倾斜15度的75度角搬运基板，并向位于倾斜方向的上侧的前面喷射处理液，由此来处理该基板的前面。

若倾斜搬运基板，并向该基板的前面喷射供给处理液，则处理液不停留在基板的板面上，在板面上从上方朝向下方顺滑地流动，因此，可以防止因处理液的重量导致基板弯曲。

将基板以规定角度倾斜搬运的同时进行处理的处理装置的情况下，如专利文献1所示，在腔内设有对成为基板的倾斜方向下侧的背面进行支持的支持辊和支持下端的驱动辊。驱动辊安装在驱动轴上，该驱动轴通过驱动源被旋转驱动。

在上述处理装置中，多个上述支持辊和上述驱动辊在上述基板的搬运方向上以规定间隔配置在腔内。因此，上述基板由上述支持辊支持背面的同时，下端被上述驱动辊驱动，向规定方向搬运。

专利文献1：(日本)特开2004-210511号公报。

但是，对于处理液的种类来说，为了提高其效果，从喷嘴体例如以0.7MPa左右的较高的压力向被搬运的基板前面喷射处理液。

另一方面，在腔内，多个基板在前后方向隔开规定间隔被依次搬运。即，在腔内搬运的位于搬运方向下游侧的基板的后端和位于上游侧的基板的前端之间有间隙，在这样的搬运状态下，从上述喷嘴体连续喷射上述处理液。

因此，从上述喷嘴体喷射的处理液不仅喷射在基板的前面，还通过前后方向一对的基板的前端和后端之间的间隙，与腔的后壁的内表面冲撞。

与腔的后壁的内表面冲突的处理液，由其内表面反射而与被搬运的基板的背面接触。因此，由支持辊支持背面来搬运的基板，由于与其背面接触的处理液的作用而从支持辊上浮起。

若基板从支持辊上浮起，则基板的搬运状态变得不稳定，在浮起较大的情况下，与形成在腔的端部壁的使基板通过的缝隙相撞或损伤基板，有怕不能搬运的顾虑。

用处理液处理的基板进行如下处理，即，用冲洗液进行清洗，接着从去液刀(液切りナイフ)喷射气体将附着在基板的板面的处理液除去。在去液处理时，从去液刀喷射的气体与腔的后壁的内表面冲撞，由该内表面反射而与搬运的基板接触。因此，背面被支持辊支持并被搬运的基板，由于去液用的气体的作用有时也从支持辊上浮起。

发明内容

本发明提供一种基板的处理装置，即使向基板喷射的处理液或气体等流体与腔的后壁内表面冲撞而反射，也难以与搬运该流体的基板的背面接触。

本发明的基板的处理装置，将基板以规定的角度倾斜搬运的同时用流体处理，其特征在于，具备：

腔；

支持辊，设在该腔内，并支持上述基板的倾斜方向下侧的背面；

驱动辊，将由上述支持辊支持背面的上述基板的下端，用该驱动辊的外周面支持并旋转驱动，由此将上述基板在规定方向上搬运；