[发明专利]基板的处理装置

权利要求书

1.一种基板的处理装置，将基板以规定的角度倾斜搬运的同时用流体处理，其特征在于，具备：

腔；

支持辊，设在该腔内，并支持上述基板的倾斜方向下侧的背面；

驱动辊，将由上述支持辊支持背面的上述基板的下端，利用该驱动辊的外周面支持并旋转驱动，由此将上述基板在规定方向上搬运；

流体供给机构，向上述基板的倾斜方向上侧的前面喷射上述流体；及

流体回流防止部件，设置在与被搬运的上述基板的背面对置的上述腔的后壁内表面，防止从上述流体供给机构喷射后冲撞上述腔的上述后壁内表面而反射的流体与上述基板的背面接触。

2.如权利要求1所述的基板的处理装置，其特征在于，上述流体回流防止部件包括：垂直壁部，前端朝向上述基板的背面方向地设置在上述腔的后壁内表面；倾斜壁部，以规定角度倾斜设置在该垂直壁部的前端；及回流防止壁部，朝向上述后壁内表面弯曲设置在该倾斜壁部的前端，阻止由该后壁内表面反射的流体朝向上述基板的背面飞散。

3.如权利要求1所述的基板的处理装置，其特征在于，上述流体回流防止部件的长度尺寸被设定成比上述腔的上下方向的尺寸短，在上述流体回流防止部件的上下端部中的至少下端部设置有通过阻止部件，该通过阻止部件防止与上述腔的上述后壁内表面冲撞而反射的流体通过上述流体回流防止部件的下端后与上述基板的背面接触。

4.如权利要求3所述的基板的处理装置，其特征在于，上述通过阻止部件设置在沿着上述基板的搬运方向的上述腔的端部。

5.如权利要求1或2所述的基板的处理装置，其特征在于，上述流体供给机构沿着上述基板的搬运方向以规定间隔配置，由供给上述流体的多个供给管及设置在各供给管的多个喷嘴体构成；

上述流体回流防止部件配置在与位于上述基板的搬运方向上游侧的端部和下游侧的端部的各供给管对应的位置。

6.如权利要求1或2所述的基板的处理装置，其特征在于，上述流体供给机构由供给上述流体的供给管及设置在该供给管的多个喷嘴体构成；

上述流体回流防止部件配置在与沿着上述基板的搬运方向的上述供给管的两侧对应的位置。