[发明专利]等离子化学气相沉积炉

说明书

技术领域

本发明为金属表面处理领域，特别是通过等离子化学气相沉积的方法来实现涂覆合金元素的方法。

背景技术

目前的金属表面涂覆工艺主要有化学气相沉积和物理气相沉积，化学气相沉积主要是依靠带有合金元素的齿化物进行蒸发，然后经沉积炉加热进行固相化学反应。因此速度慢耗能大。物理气相沉积也是将固态金属由蒸发后，通过偏压加热来达到涂覆金属的目的。

发明内容

本发明主要是将工件直接置于低气压直流辉光放电的阴极上，使工件升温到预定温度，然后通入食粮的含有可沉积的金属的齿化液，和还原性气体，由一系列的化学反应和等离子体活化作用，将金属元素渗入。

具体实施方式

该设备由真空室，炉壁，等离子柜，隔热屏，抽真空系统，充气系统和齿化液流量滴入控制系统等组成，整体结构为井式。具体方法：将工件1、用丙酮清洗过后放入真空室内，盖上炉盖3，进行抽真空，2、至真空度0.133-5*1.33Pa，由充气系统充入Ar气，建立辉光放电清炉20min通入H₂、N₂气，调整气压和电参数，升温至450-650℃气压为2.66.64-1066Pa，在由阀门5通入TiCl₄，待沉积时间达到要求后并闭TiCl₄、H₂、N₂维持20min冷却后即可出炉。