[发明专利]薄膜晶体管液晶显示器阵列基板结构及其制造方法有效
| 申请号： | 200710119563.2 | 申请日： | 2007-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN101354507A | 公开（公告）日： | 2009-01-28 |
| 发明（设计）人： | 郭建;王威;金基用 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G09G3/36;H01L21/77;H01L27/12 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘芳 |
| 地址： | 100176北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 薄膜晶体管 液晶显示器 阵列 板结 及其 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种薄膜晶体管液晶显示器阵列基板结构制造方法，其特征在于：包括：
在基板上沉积金属薄膜，通过光刻工艺和刻蚀工艺形成栅极扫描线；
在所述基板上沉积绝缘层；
在沉积有绝缘层的所述基板的基础上涂敷光刻胶，再通过光刻工艺和刻蚀工艺使光刻胶保留在所述栅极扫描线与信号扫描线交错位置上；
在所述基板上沉积有源层，通过光刻工艺和刻蚀工艺使有源层在所述栅极扫描线方向上部分覆盖光刻胶；
通过剥离工艺，剥离位于所述绝缘层和所述有源层之间的所述光刻胶，剥离工艺后，在所述绝缘层和所述有源层之间形成空气隙；
在所述基板上面沉积金属薄膜，通过光刻工艺和刻蚀工艺形成信号扫描线。
2.根据权利要求1所述的薄膜晶体管液晶显示器阵列基板结构制造方法，其特征在于：所述在沉积有绝缘层的所述基板的基础上涂敷光刻胶，具体为在垂直于所述栅极扫描线的方向上，涂敷的光刻胶的宽度要比栅极扫描线宽。
3.根据权利要求1所述的薄膜晶体管液晶显示器阵列基板结构制造方法，其特征在于：所述在所述基板上沉积有源层，通过光刻工艺和刻蚀工艺使有源层在所述栅极扫描线方向上部分覆盖光刻胶，具体为在所述栅极扫描线方向上，通过光刻工艺和刻蚀工艺使保留的所述有源层的宽度小于所述光刻胶的宽度。
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