[发明专利]电阻元件调节方法,电阻元件及电流发生装置无效
申请号: | 200710109015.1 | 申请日: | 2007-06-12 |
公开(公告)号: | CN101090066A | 公开(公告)日: | 2007-12-19 |
发明(设计)人: | 大塚正也;阿部博明 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L27/04 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 杨梧;王景刚 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电阻 元件 调节 方法 电流 发生 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种对由形成于半导体基板上的阱(well)电阻区域构成的电阻元件的电阻值及电阻温度特性进行调节的方法,其电阻值及电阻温度特性得到调节的电阻元件,使用这种电阻元件的电流发生装置。
背景技术
近年来,为了提高数字运算速度,在不断使半导体装置的栅极细化的同时,如电源产品所代表的半导体装置也被使用于模拟用途。
在模拟电路中,半导体装置的电阻和电容的偏差、还有电阻温度特性和电阻电压关系特性对电路有很大的影响。特别是由于温度变化造成的特性偏差,有时候即使在数字电路中能够忽略不计,在模拟电路中却不能够忽略不计。
因此,半导体装置的电阻温度特性有必要在全部温度区域正常化。作为其方法,使用例如具有不同的电阻温度特性的两个元件构成电路,以使其电阻温度特性相互抵消的方法。下面,参照如图1所示的实施例中使用的这样构成的电路进行说明。
图1表示恒电流电路90’。在该图中,符号44表示运算放大器,M1、M2、M3表示相同的成对MOS晶体管,Q1、Q2表示双极晶体管,X’表示电阻元件。
晶体管M1、M2、M3的各源极连接于同一电源端子38上,形成电流镜连接。双极晶体管Q1和Q2具有相同的特性,基极射极间的面积之比采用1∶n(n>1)。
为使运算放大器44的反转输入端子(-端子)的输入电压与非反转输入端子(+端子)的输入电压相等施加负反馈,为此,在电阻X’的两端施加双极晶体管Q1的基极-射极间电压VBE1和双极晶体管Q2的基极-射极间电压VBE2之差ΔVBE。由于晶体管M1、M2、M3形成电流镜连接,因此各漏极电流相等,为基准电流I。射极晶体管Q2的饱和电流IS2为射极晶体管Q1的饱和电流IS1的n倍,晶体管M1与M2形成电流镜连接,因此射极晶体管Q1与Q2各自的射极电流被相等的电流I0旁路,可以用下式表示。
ΔVBE=VBE1-VBE2
=Vt×ln(I0/IS1)-Vt×ln(I0/IS2)
=Vt×ln(n) ……(1)
其中,Vt表示热电压,Vt=kT/q。k为玻尔兹曼常数,T为绝对温度,q为元电荷电子电量。
这里,k=1.38×10-13(J/K),q=1.6×10-19(C)
由于ΔVBE=I×R,I=Vt×ln(n)/R,基准电流I的温度系数TC(I)由下式(2)表示。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造