[发明专利]玻璃成形装置、玻璃成形方法、和玻璃成形品制造装置

说明书

技术领域

本发明涉及玻璃成形装置、玻璃成形方法、和玻璃成形品制造装置，尤其涉及使玻璃成形品成形的成形模。

背景技术

例如，作为制造透镜等光学玻璃元件的方法，有以精密压制来进行制造的技术：对形状接近被称为预成型坯的成品的玻璃成形品进行加热，使所述玻璃成形品软化，并利用具有高精密面的模具进行压制，在模具面上进行转录。

利用如下方法来制造所述预成型坯：例如，使熔融状态的光学玻璃材料流下到喷出气体的成形模的成形面上，一边使所述熔融状态的光学玻璃材料保持为悬浮在成形面上的状态一边加以冷却。例如在下述专利文献1中揭示了如下制造方法：在喷出气体的状态下的多孔质模具的承接面上，利用气体，在悬浮的非接触状态下承接使从熔融玻璃流出口流出的熔融玻璃流，从而获得熔融玻璃块来作为光学元件成形用材料。所述制造方法中所使用的多孔质模具有如下构造：使从多孔质模具的承接面喷出的气体中的、无助于使熔融玻璃块悬浮的剩余的气体流，不向熔融玻璃流出口的方向喷出。即，为如下模具构造：将外盖覆盖在除了承接面以外的多孔质模具的上表面，以不使剩余的气体流向流出口的方向喷出。

[专利文献1]日本专利特开2000-095531号公报

发明内容

然而，在所述专利文献1中所揭示的玻璃成形装置的多孔质模具中，因为除了多孔质模具的承接面以外，均由外盖所覆盖，所以有时多孔质模具会与外盖脱离。而且，存在如下问题：因使用而导致仅上表面的外盖延伸，在多孔质模具与外盖之间产生空隙，从而气流泄漏。

而且，存在如下等问题：因为一边喷出气体，一边制造熔融玻璃块，所以当喷出的气体中存在杂质时，在所制造出的预成型坯中也会混入杂质，从而遮住光路或者导致光散射，从而无法作为光学元件用的玻璃来满足透射率等光学常数。然而，在所述专利文献1中，并未涉及对所喷出的气体进行净化的方面。

本发明是鉴于所述问题开发而成的，提供具有易于加工且即使长期使用也不易劣化的成形模的玻璃成形装置、玻璃成形方法、和玻璃成形品制造装置。

为了解决所述问题，本发明者发现通过仅从成形模的承接面喷出气体，较好的是通过对除了成形模的承接面以外的外侧面实施塞孔处理，可以使加工变得容易且经得住长期使用，从而完成了本发明。更具体而言，本发明提供如下所述的装置和方法。

(1)一种玻璃成形装置，具有可以使气体通过的成形模，且在喷出气体的所述成形模的承接面上承接熔融玻璃，所述成形模仅从承接面喷出气体。

本发明的玻璃成形装置仅从承接熔融玻璃的承接面喷出气体。因此，仅用于使熔融玻璃悬浮，且因未喷出剩余的气体，所以效率较高。而且，因为未利用从承接面以外的面喷出的气体来冷却流下装置的熔融玻璃，所以可以有效地防止产生条纹。而且，因为可以在浮游在成形模上的状态下来制造预成型坯，所以可以制造在玻璃表面上无皱折等缺陷且表面光滑的预成型坯。

(2)根据(1)所述的玻璃成形装置，对所述成形模的除了承接面以外的外侧面实施塞孔处理。

(3)根据(2)所述的玻璃成形装置，所述塞孔处理是选自由利用液状组成物来堵塞气孔并使所述气孔硬化的处理、利用等离子喷涂来堵塞气孔的处理、利用CVD(Chemical Vapor Deposition，化学汽相淀积)来堵塞气孔的处理、和利用电镀处理来堵塞气孔的处理所组成的群的处理。

根据所述形态，通过对成形模的除了承接面以外的面实施塞孔处理，可以仅从承接面喷出气体。而且，因为直接对母材(对成形模实施塞孔处理前的部件)实施塞孔处理，所以不会如在母材上放置外盖时般，因使用而使母材与外盖脱离。其次，不会产生因使外盖延伸，而使母材与外盖之间产生空隙，从而导致气体泄漏，所以可以经得住长期使用。而且，对于塞孔处理而言，较好的是使用所述处理。通过实施所述处理，可以仅堵塞气孔，或者可以使形成在成形模上的膜变薄，因此可以使成形模小型化。而且，因为直接对成形模实施塞孔处理，所以可以仅对成形模的承接面进行再加工。

(4)根据(1)至(3)中任一项所述的玻璃成形装置，所述成形模由多孔质材料而形成。

根据所述形态，因为成形模由多孔质材料而形成，所以通过对具有预期的成形模形状的成形体进行烧结，可以制造承接面与侧面为一体的成形模。因此，无须连接承接面与侧面，所以可以制造气体不会从连接部泄漏的良好的预成型坯。而且，通过使用多孔质材料，可以省略打开气孔的步骤，所述气孔形成在承接面上且使气体通过。此外，因为气孔均匀地形成在整个承接面上，所以可以从整个承接面均匀地喷出气体。