[发明专利]透射反射式二极管基板及其制造方法

权利要求书

1、一种用于液晶显示器件的透射反射式二极管基板，包括：

彼此相邻的透射区域和反射区域，

其中像素电极形成在该透射区域和该反射区域中，

其中该反射区域包含二极管、围绕该二极管的有机图案以及位于该有机图案上方的反射电极，其中所述二极管具有扫描电极、位于该扫描电极上的绝缘图案和位于该扫描电极上方的所述像素电极；以及

其中仅三道掩模用来形成该扫描电极、该绝缘图案、该像素电极、该有机图案和保护图案，

其中该扫描电极为第一扫描电极和第二扫描电极，

其中该像素电极通过贯穿与该扫描电极重叠的该有机图案的孔与该绝缘图案接触。

2、根据权利要求1所述的透射反射式二极管基板，其特征在于，所述二极管包括：

形成在该第一扫描电极和该像素电极之间的第一二极管；以及

形成在该第二扫描电极和该像素电极之间的第二二极管。

3、根据权利要求2所述的透射反射式二极管基板，其特征在于，还包括：

与该第一扫描电极连接的第一扫描线；以及

与该第二扫描电极连接的第二扫描线。

4、根据权利要求3所述的透射反射式二极管基板，其特征在于，还包括：

分别与所述第一扫描线和所述第二扫描线连接的第一扫描焊盘和第二扫描焊盘；

其中该第一扫描焊盘包括与所述第一扫描线连接的第一扫描焊盘下电极，和与该第一扫描焊盘下电极连接并且位于其正上方的第一扫描焊盘上电极，

其中该第二扫描焊盘包括与所述第二扫描线连接的第二扫描焊盘下电极，和与该第二扫描焊盘下电极连接并且位于其正上方的第二扫描焊盘上电极。

5、根据权利要求4所述的透射反射式二极管基板，其特征在于，所述有机图案设置在该第一和第二扫描焊盘下电极和该第一和第二扫描焊盘上电极之间；并且

该第一和第二扫描焊盘下电极和该第一和第二扫描焊盘上电极通过贯穿该有机图案并暴露该第一和第二扫描焊盘下电极的接触孔连接。

6、根据权利要求1所述的透射反射式二极管基板，其特征在于，所述保护图案位于该像素电极和该反射电极之间并且具有与该反射电极相同的图案。

7、一种用于制造液晶显示器件的透射反射式二极管基板的方法，包括：

采用第一掩模在一个基板上形成扫描线、与该扫描线连接的扫描电极以及位于该扫描线和该扫描电极上的绝缘图案；

采用第二掩模形成有机图案以及通过贯穿该有机图案并且暴露出所述绝缘图案的有机孔；

采用第三掩模形成反射电极以及透射区域和反射区域中的像素电极，所述像素电极覆盖所述有机孔，所述反射电极与所述有机图案重叠且其间具有所述像素电极，

其中该扫描电极、该绝缘图案以及位于该扫描电极上方的该像素电极构成二极管。

8、根据权利要求7所述的用于制造透射反射式二极管基板的方法，其特征在于，所述扫描线包括：

靠近所述像素电极的第一侧的第一扫描线和靠近所述像素电极的第二侧的第二扫描线；并且

所述二极管包括与该第一扫描线连接的第一二极管和与该第二扫描线连接的第二二极管。

9、根据权利要求7所述的用于制造透射反射式二极管基板的方法，其特征在于，在所述采用第一掩模的形成步骤中还包括形成与所述扫描线连接的扫描焊盘下电极。

10、根据权利要求7所述的用于制造透射反射式二极管基板的方法，其特征在于，所述采用第一掩模的形成步骤包括：

在所述一个基板上顺序沉积扫描金属、无机材料和光刻胶；

采用应用第一掩模的光刻工艺形成具有第一高度的第一光刻胶图案和具有低于第一高度的第二高度的第二光刻胶图案；

构图无机绝缘材料和扫描金属以在对应于第一光刻胶图案的部分形成所述扫描线、所述扫描电极和所述绝缘图案，并在对应于第二光刻胶图案的部分形成扫描焊盘下电极和所述绝缘图案；

灰化第一和第二光刻胶图案以暴露位于所述扫描焊盘下电极上的绝缘图案；

蚀刻暴露出的绝缘图案以暴露出所述扫描焊盘下电极；以及

采用剥离工艺去除剩余的光刻胶图案。