[发明专利]半导体制程的装置与方法

权利要求书

1.一种半导体制程的装置，其特征在于包含：

一制程室，具有一等离子容纳区；

一介电板被固定于该制程室的顶部；

一电源，其中该介电板分隔开该电源及该等离子容纳区；以及

一夹盘，被支撑于该制程室之中，并且被设定来可操作性地相对于该电源移动。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于所述的夹盘被初始设置于与一x轴及一y轴平行，并与一z轴垂直的一平面上，并且该夹盘被设定为可操作性地沿着该z轴移动、以该x轴为轴倾斜、以该y轴为轴倾斜或进行前述动作的任何组合。

3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于其更包含多数个微致动器，其中该些微致动器被设定为可操作性地带动该夹盘。

4.根据权利要求2所述的装置，其特征在于更包含多数个伸缩囊，其中该些伸缩囊被设定为可操作性地带动该夹盘。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于所述的夹盘被初始设置于与一x轴及一y轴平行，并与一z轴垂直的一平面上，并且该夹盘被设定为可操作性地沿着该x轴移动、沿着该y轴移动或进行前述动作的任何组合。

6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于更包含：

一弹簧，附加于该夹盘；以及

一马达，具有一连杆连接至该弹簧，其中该马达能够透过该连杆压缩该弹簧，用以沿着一线性方向移动该夹盘。

7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于所述的电源包含为一射频电源所激能的一平面螺旋线圈。

8.一种半导体制程的装置，其特征在于包含：

一制程室，具有一等离子容纳区；

一介电板被固定于该制程室的顶部；

一夹盘，被支撑于该制程室之中并且被设置于该等离子容纳区之下；以及

一线圈，被设定为能够可操作性地相对于该夹盘移动，其中该介电板分隔开该线圈及该等离子容纳区。

9.根据权利要求8所述的装置，其特征在于所述的线圈包含为一射频电源所激能的一平面螺旋线圈。

10.根据权利要求9所述的装置，其特征在于所述的平面螺旋线圈被初始设置于与一x轴及一y轴平行，并与一z轴垂直的一平面上，并且该平面螺旋线圈被设定为可操作性地沿着该z轴移动、以该x轴为轴倾斜、以该y轴为轴倾斜或进行前述动作的任何组合。

11.根据权利要求10所述的装置，其特征在于更包含多数个微致动器，其中该些微致动器被设定为可操作性地带动该线圈。

12.根据权利要求11所述的装置，其特征在于所述的微致动器的种类是从由下列元素所组成的组合中选出：静电式、磁力式、液压式、形状记忆合金式、压电式以及热能式。

13.一种半导体制程的方法，其特征在于包含：

固定一半导体晶圆于一制程室中的一夹盘上；

激能一线圈，用以于该制程室中产生一等离子；

执行该半导体晶圆的一等离子程序；

测量该半导体晶圆整个于该等离子程序执行中的一均匀度；以及

相对于该线圈调整该夹盘的一位置，其中是以所测量出的该均匀度为基准调整之。

14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于所述的固定步骤包含初始设置该夹盘于与一x轴及一y轴平行，并与一z轴垂直的一平面上，而调整步骤包含设定该夹盘沿着该z轴移动、以该x轴为轴倾斜、以该y轴为轴倾斜或进行前述动作的任何组合。

15.根据权利要求13所述的方法，其特征在于更包含相对于该夹盘调整该线圈的一位置，其中是以所测量出的该均匀度为基准调整之。