[发明专利]用于处理物体的方法和装置无效
| 申请号: | 200710104177.6 | 申请日: | 2007-05-21 |
| 公开(公告)号: | CN101073671A | 公开(公告)日: | 2007-11-21 |
| 发明(设计)人: | R·弗罗斯特 | 申请(专利权)人: | PTM包装工具机器私人有限公司 |
| 主分类号: | A61L2/20 | 分类号: | A61L2/20;A61L101/22 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 曹若;赵辛 |
| 地址: | 新加坡*** | 国省代码: | 新加坡;SG |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 处理 物体 方法 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种用于处理物体,尤其是用于消毒的装置,具有至少一个腔室用于一起承接至少二个待处理物体,并具有至少一个配属于腔室开口的封闭元件,该元件可活动地布置在装置里用于打开和关闭开口,其中通过封闭元件可以使腔室真空密封地封闭住,而且其中在腔室关闭状态下设置封闭元件,使得在封闭元件和腔室之间没有相对运动。
本发明还涉及一种用于对至少两个置于一个共同腔室里待消毒的物体进行消毒的方法,腔室可以通过至少一个封闭元件而真空密封地封闭住,其中封闭元件设计成在关闭状态下相对于腔室没有运动。
应该指出:“真空密封”这个特征不能绝对地来理解,而且应该根据在腔室里要实施的方法来规定。对于密封的要求基本上取决于腔室里所必需的压力以及可容忍的漏气流的大小。
背景技术
开头所述型式的装置通过DE 199 16 478 A1而成为现有技术。描述了一种用于对容器进行等离子消毒的回转器。回转器例如具有50个腔室用于各自承接一个容器。回转器的处理能力为每小时20,000个容器的数量级。每个固定在回转器上的腔室具有一块可活动的底板,它可以向下运动离开。为了给腔室装料将一个容器放在运动离开的底板上并从下面移入腔室里,直至底板碰到其余的腔室壁为止并使腔室密封。底板在回转器旋转时与腔室一起运动,因此相对于腔室就没有相对运动。只是在处理过程结束时底板才又向下移动以打开腔室,使容器可以取出。
这种型式的装置不仅用于等离子消毒,也适用于开头所述型式的方法。一种这样的方法由DE 101 12 971 A1就已知了。所述的方法可以使一个回转器中的物体有效地消毒,而不必点燃等离子体。因此可以改善效率。
一种这样的装置尤其是具有以下优点:通过连续的工作方式可以实现对物体的很高的处理能力,例如每小时30,000个物体的数量级。但不利之处在于:在已知的装置中必须设有许多腔室来承接物体。通常设有50至100个腔室。对于每个腔室都必需有一个自身的阀组件,以便使这些腔室与各个不同的供应装置和排出装置相连接用于各个工序。整个装置需要许多结构空间,这是因为回转器的直径由于腔室数量多而很大。
过去还曾经试过对这样的装置进行最优化,其中在回转器的每个腔室里同时地装入了多个,例如二个或三个物体。这样腔室的数量在相同的处理能力下容易地减少了,但所要处理物体的输出和输出却不再能够连续地进行。在一个连续地输送物体的设备中取出两个物体同时就引起了不连续性,这又必须用一种随后的等候时间来补偿。由于这种所引起的不连续性一种这样的不连续的方法基本上就是不利的。
发明内容
发明的任务是在保持连续工作方式的优点的条件下减少所需腔室的数量并因此使装置简化并减少所需的结构空间。
此任务在装置方面如下解决:可以将至少两个待处理的物体依次地装入腔室里,而且这开口可以通过至少一个封闭元件基本上连续地封闭住。
开口的封闭基本为连续地进行这个特征可以理解为:关闭可以逐步地成多级地或者也可以无级地连续进行。为此腔室的开口可以对应有多个刚性的封闭构件用来逐步地成多级地关闭开口。但也可以规定,使腔室的开口对应有一种柔性的封闭构件用于连续地关闭开口。
这个任务在这方法方面通过如下措施来解决:将至少两个物体依次地装入腔室里,使腔室在装入每一个物体之后封闭一个部分;使腔室在装入最后一个物体之后真空密封地封闭并抽真空;使得由气体状过氧化氢和气态水组成的蒸气混合物在小于8秒(以下简称S)时间内注入腔室里,从而在物体和腔室的所有可接近到达的表面上形成一个凝结物层,它使表面消毒,因此最迟在形成凝结物层之后3S就开始对腔室重新抽真空,其中使腔室中的压力降低到低于过氧化氢的蒸气压力并因此将凝结层去掉;使腔室充入消毒气体;使腔室基本上连续地打开并依次地将物体从腔室里取走。
如下可以实现优点:腔室的数量可以减少到例如一至十个,而不会影响每小时大约20,000至40,000个物体的连续处理能力。由于腔室数量的减少,装置需要少得多的结构空间。此外用真空和过氧化氢蒸气混合物供给腔室被简化了。尽管装置连续地工作,但所有装在一个共同腔室里的物体对于实施的处理方法来说总是在同一个工序里。
此处应该明确地指出:所述的装置尤其是适合于所述的消毒方法,但绝不限于这种方法。装置完全一样良好地适用于对物体的等离子消毒或用于物体的等离子涂层。装置可以特别有利地使用于处理瓶子或其它待充装的容器。
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