[发明专利]有机电激发光显示装置、光电装置及其形成方法

权利要求书

1.一种有机电激发光显示装置，包括：

基板，其具有第一表面及第二表面；

多个微透镜，形成于该基板的第一表面；以及

多个像素结构，形成于该基板的第二表面，每一像素结构具有多个子像素，且任两个相邻像素结构的子像素间的最近距离实质上大于同一像素结构内的子像素间的最近距离。

2.如权利要求1所述的有机电激发光显示装置，其中任两个相邻像素结构的子像素间的最近距离实质上大于或等于50微米。

3.如权利要求1所述的有机电激发光显示装置，其中任两个相邻像素结构的子像素间的最近距离实质上大于或等于100微米。

4.如权利要求1所述的有机电激发光显示装置，其中任两个相邻像素结构的子像素间的最近距离与同一像素结构内的子像素间的最近距离的比值实质上大于或等于1.5。

5.如权利要求1所述的有机电激发光显示装置，其中任两个相邻像素结构的子像素间的最近距离与同一像素结构内的子像素间的最近距离的比值实质上大于或等于2。

6.如权利要求1所述的有机电激发光显示装置，其中每一像素结构包括至少三个子像素。

7.如权利要求1所述的有机电激发光显示装置，其中每一像素结构包括至少四个子像素。

8.如权利要求1所述的有机电激发光显示装置，其中该微透镜具有弧面。

9.如权利要求1所述的有机电激发光显示装置，其中该微透镜的平面轮廓实质上为圆形或实质上为多边形。

10.一种光电装置，包括：

如权利要求1所述的有机电激发光显示装置；以及

电子元件与该有机电激发光显示装置相连。

11.一种有机电激发光显示装置的形成方法，包括：

提供基板，其具有第一表面及第二表面；

形成多个微透镜于该基板的第一表面；以及

形成多个像素结构于该基板的第二表面，每一像素结构具有多个子像素，且任两个相邻像素结构的子像素间的最近距离实质上大于同一像素结构内的子像素间的最近距离。

12.如权利要求11所述的方法，其中任两个相邻像素结构的子像素间的最近距离实质上大于或等于50微米。

13.如权利要求11所述的方法，其中各两个相邻像素结构的子像素间的最近距离实质上大于或等于100微米。

14.如权利要求11所述的方法，其中各两个相邻像素结构的子像素间的最近距离与同一像素结构内子像素间的最近距离的比值实质上大于或等于1.5。

15.如权利要求11所述的方法，其中各相邻像素结构的子像素间的最近距离与同一像素结构内的子像素间的最近距离的比值实质上大于或等于2。

16.如权利要求11所述的方法，其中该微透镜具有弧面。

17.如权利要求11所述的方法，其中该微透镜的平面轮廓实质上为圆形或实质上为多边形。

18.一种光电装置的形成方法，包括如权利要求11所述的有机电激发光显示装置的形成方法。