[发明专利]一种处理挥发性有机物的低温等离子体装置有效
申请号: | 200710099587.6 | 申请日: | 2007-05-25 |
公开(公告)号: | CN101121095A | 公开(公告)日: | 2008-02-13 |
发明(设计)人: | 李坚;豆宝娟;梁文俊;竹涛;金毓峑 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | B01D53/76 | 分类号: | B01D53/76;B01D53/72;B01J19/08;H05H1/32;H05H1/34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 处理 挥发性 有机物 低温 等离子体 装置 | ||
1、一种处理挥发性有机物的低温等离子体装置,其特征在于:主要包括有进气口(1)、渐扩器(2)、高压极板(4)、接地极板(7)和反应器壳体(10),其中,进气口(1)通过渐扩器(2)与反应器壳体(10)固定连接;在反应器壳体(10)的内部、渐扩器(2)中心轴线的两侧各设置一块高压极板(4),高压极板(4)通过绝缘卡槽(8)与反应器壳体(10)相连接,两块高压极板(4)和反应器壳体(10)围成的空间为气流缓冲室(3),气流缓冲室(3)与渐扩器(2)相连通;高压极板(4)上均匀分布有用于产生等离子体的高压极喷嘴(5),高压极板(4)与反应器壳体(10)之间设置有接地极板(7),接地极板(7)通过卡槽(9)与反应器壳体(10)相连接,接地极板(7)与反应器壳体(10)之间留有用于气体通过的间隙;与接地极板(7)对应的反应器壳体(10)的两个侧面上均设置有出气口(12)。
2、根据权利要求1所述的一种处理挥发性有机物的低温等离子体装置,其特征在于:所述的高压极喷嘴(5)和接地极板(7)之间设置有介质阻挡层(6)。
3、根据权利要求2所述的一种处理挥发性有机物的低温等离子体装置,其特征在于:所述的介质阻挡层(6)为聚四氟乙烯板或云母板。
4、根据权利要求1所述的一种处理挥发性有机物的低温等离子体装置,其特征在于:所述的绝缘卡槽(8)为聚四氟乙烯卡槽。
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