[发明专利]对正装置及曝光装置

权利要求书

1.一对正装置，其特征在于，该对正装置包括：

一台座，其保持二维平面的方形基板，以正交于二维平面的轴为中心旋转，且于该二维平面内的第一方向上移动；

一第一摄影装置，其对配置于上述方形基板的一边的边缘的彼此分离的位置上的二个部位进行摄影，并输出二个部位的边缘影像；

一第二摄影装置，其对与上述一边相交的另一边的边缘的一个部位进行摄影，并输出一个部位的另一边缘影像；

一影像处理电路，其对上述边缘影像及上述另一边缘影像进行影像处理；以及

一控制部，其根据上述影像处理电路的输出而控制上述台座，

其中：上述影像处理电路确认上述二个部位的边缘影像与预先存储的影像是否一致，同时上述控制部使上述台座旋转；并且，上述影像处理电路确认上述一个部位的另一边缘影像与预先存储的影像是否一致，同时上述控制部使上述台座移动。

2.如权利要求1所述的对正装置，其中在配置于上述分离的位置上的二个部位的位置以及上述另一边缘的一个部位的位置上，设有反射光线的反射台。

3.如权利要求2所述的对正装置，其中上述反射台对应于上述方形基板的尺寸而可移动。

4.如权利要求1至3中任一项所述的对正装置，其中在配置于上述分离的位置上的二个部位的位置以及上述另一边缘的一个部位的位置上，设有照射光线的照明装置。

5.如权利要求4所述的对正装置，其中上述照明装置具有一第一光源形状以及与该第一光源形状不同的第二光源形状，对应于光致抗蚀剂而切换上述第一光源形状与上述第二光源形状。

6.如权利要求4所述的对正装置，其中上述照明装置具有第一波长的光源以及与该第一波长不同的第二波长的光源，对应于光致抗蚀剂而切换上述第一波长的光源以及上述第二波长的光源。

7.如权利要求5所述的对正装置，其中上述照明装置具有第一波长的光源以及与该第一波长不同的第二波长的光源，对应于光致抗蚀剂而切换上述第一波长的光源以及上述第二波长的光源。

8.一种曝光装置，该曝光装置使方形基板沿着移动路径而移动，在上述方形基板的图案区域上形成电路图案，其特征在于，该曝光装置包括：

一对正装置，其为如权利要求1至5中任一项所述的对正装置；

一激光光束单元，其设于上述方形基板的上方，对未形成上述电路图案的非电路图案区域照射激光光束，而印记识别标记；以及

一紫外光照射单元，其在与该激光光束单元相邻的位置上，且设于上述方形基板的上方，对上述非电路图案区域照射紫外光，

其中藉由上述对正装置的控制，在上述方形基板移动至既定位置后，上述方形基板的边缘移动至上述激光光束单元下面及紫外光照射单元下面。