[发明专利]基板检查装置及使用其的基板检查方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种基板检查装置及使用其的基板检查方法，更详细地说， 涉及一种能正确地测定基板上的图案缺陷的基板检查装置及使用其的基板 检查方法。

背景技术

最近，代替已有的布劳恩管，如液晶显示装置和有机电致发光装置 (OLED)的平板显示装置被广泛使用。

在这些显示装置中使用形成各种各样的图案的基板。例如，在液晶显 示装置的滤色器基板上形成有如黑色矩阵及滤色器那样的图案。这样的图 案必须形成为均匀的高度。在滤色器的情况下，如果形成的高度不均匀， 就可能会在画面上产生斑点花纹。

在显示装置的制造过程中，通过基板检查，检查这些图案的高度是否 均匀地形成。

但是，现有的基板检查是在形成图案的基板上照射光的同时，操作人 员用肉眼判断是否有缺陷，因此，存在难以进行正确测定的问题。

发明内容

因此，本发明的目的在于提供一种正确地测定图案缺陷的基板检查方 法。

本发明的其他目的在于提供一种正确地测定图案缺陷的基板检查装 置。

所述本发明的目的通过以下的基板检查方法而实现，该基板检查方法 包括：在形成图案的基板上施加检查光的步骤、检测由所述基板反射的所 述检查光的亮度的步骤及从所述检测到的亮度判断所述图案是否有缺陷的 步骤。

优选所述检查光以相干(coherent)的状态被施加在所述基板上。

优选所述检查光是线状光。。

优选所述亮度是在所述基板上扫描所述检查光的同时得到的。

优选在所述扫描时，所述检查光向所述基板的入射角是一定的，所述 亮度是从所述基板的入射点开始在一定的位置进行检测。

优选所述亮度是使用含有配置成一列摄像单元的线阵照相机得到的。

所述摄像单元优选包含CCD(电荷耦合器件)。

优选被反射的所述检查光经过透镜入射到所述线阵照相机中。

优选在所述基板上形成多个像素区域，所述各摄像单元的光学分辨率 是所述像素区域尺寸的100％～300％。

优选所述各摄像单元的光学分辨率R用下式表示，

R＝(b-f)×D/f，

在此，b表示所述透镜与所述入射点之间的距离，f表示所述透镜的焦 距，D表示所述各摄像单元的尺寸，

使所述透镜与所述入射点之间的距离变化而调节所述各摄像单元的光 学分辨率。

优选所述透镜与所述线阵照相机之间的距离a为D×R/b的值的 90％～110％。

优选所述图案至少包括黑色矩阵、滤色器及柱状衬垫中的任意一个。

优选所述亮度根据所述图案的高度而变化。

所述本发明的通过以下的基板检查方法而实现，该基板检查方法包括： 在形成图案的基板上施加线状检查光的步骤、使用线阵照相机检测由所述 基板反射的所述检查光的亮度的步骤及从所述检测到的亮度判断所述图案 是否有缺陷的步骤。

优选所述亮度是在所述基板上扫描所述检查光的同时而得到。

优选在所述扫描时，所述检查光向所述基板的入射角是一定的，所述 亮度是从所述基板的入射点开始在一定的位置进行检测。

优选被反射的所述检查光经过透镜入射到所述线阵照相机中，在所述 基板上形成多个像素区域，所述线阵照相机包含配置成一列的摄像单元， 所述各摄像单元的光学分辨率是所述像素区域尺寸的100％～300％。

优选所述各摄像单元的光学分辨率R用下式表示，

R＝(b-f)×D/f，

在此，b表示所述透镜与所述入射点之间的距离，f表示所述透镜的焦 距，D表示所述各摄像单元的尺寸，

使所述透镜与所述入射点之间的距离变化而调节所述各摄像单元的光 学分辨率。

所述本发明的其他目的通过以下的基板检查装置实现，该基板检查装 置包括：放置部，其放置形成图案的基板；检测部，其包含位于所述放置 部的上部，将检查光供给所述基板的光源部和检测由所述基板反射的所述 检查光亮度的照相机；驱动部，其使所述放置部与所述检测部相对移动； 控制部，其从所述照相机检测到的亮度来判断所述图案是否有缺陷。

优选所述光源部供给的所述检查光是相干的。

优选所述检查光是线状光。

优选所述光源部包含限制射出光的射出角的缝隙。