[发明专利]基板检查装置及使用其的基板检查方法

权利要求书

1.一种基板检查方法，其特征在于，包括：在形成图案的基板上施加 检查光的步骤、检测由所述基板反射的所述检查光的亮度的步骤及从所述 检测到的亮度判断所述图案是否有缺陷的步骤，

其中所述检查光以相干的状态被施加在所述基板上。

2.如权利要求1所述的基板检查方法，其特征在于，所述检查光是线 状光。

3.如权利要求1～2中任一项所述的基板检查方法，其特征在于，所述 亮度是在所述基板上扫描所述检查光的同时得到的。

4.如权利要求3所述的基板检查方法，其特征在于，在所述扫描时， 所述检查光向所述基板的入射角是一定的，所述亮度是从所述基板的入射 点开始在一定的位置进行检测。

5.如权利要求4所述的基板检查方法，其特征在于，所述亮度是使用 含有配置成一列摄像单元的线阵照相机得到的。

6.如权利要求5所述的基板检查方法，其特征在于，所述摄像单元包 含电荷耦合器件。

7.如权利要求6所述的基板检查方法，其特征在于，被反射的所述检 查光经过透镜入射到所述线阵照相机中。

8.如权利要求7所述的基板检查方法，其特征在于，在所述基板上形 成多个像素区域，所述各摄像单元的光学分辨率是所述像素区域尺寸的 100％～300％。

9.如权利要求8所述的基板检查方法，其特征在于，所述各摄像单元 的光学分辨率R用下式表示，

R＝(b-f)×D/f，

在此，b表示所述透镜与所述入射点之间的距离，f表示所述透镜的焦 距，D表示所述各摄像单元的尺寸，

使所述透镜与所述入射点之间的距离变化而调节所述各摄像单元的光 学分辨率。

10.如权利要求9所述的基板检查方法，其特征在于，所述透镜与所述 线阵照相机之间的距离a为D×R/b的值的90％～110％。

11.如权利要求3所述的基板检查方法，其特征在于，所述图案至少包 括黑色矩阵、滤色器及柱状衬垫中的任意一个。

12.如权利要求3所述的基板检查方法，其特征在于，所述亮度根据所 述图案的高度而变化。

13.一种基板检查方法，其特征在于，包括：在形成图案的基板上施加 线状检查光的步骤、使用线阵照相机检测由所述基板反射的所述检查光的 亮度的步骤及从所述检测到的亮度判断所述图案是否有缺陷的步骤，

其中所述检查光以相干的状态被施加在所述基板上。

14.如权利要求13所述的基板检查方法，其特征在于，所述亮度是在 所述基板上扫描所述检查光的同时得到的。

15.如权利要求14所述的基板检查方法，其特征在于，在所述扫描时， 所述检查光向所述基板的入射角是一定的，所述亮度是从所述基板的入射 点开始在一定的位置进行检测。

16.如权利要求15所述的基板检查方法，其特征在于，被反射的所述 检查光经过透镜入射到所述线阵照相机中，在所述基板上形成多个像素区 域，所述线阵照相机包含配置成一列的摄像单元，所述各摄像单元的光学 分辨率是所述像素区域尺寸的100％～300％。

17.如权利要求16所述的基板检查方法，其特征在于，所述各摄像单 元的光学分辨率R用下式表示，

R＝(b-f)×D/f，

在此，b表示所述透镜与所述入射点之间的距离，f表示所述透镜的焦 距，D表示所述各摄像单元的尺寸，

使所述透镜与所述入射点之间的距离变化而调节所述各摄像单元的光 学分辨率。