[发明专利]等离子体处理装置无效
| 申请号： | 200710087383.0 | 申请日： | 2007-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN101052265A | 公开（公告）日： | 2007-10-10 |
| 发明（设计）人： | 金春植 | 申请（专利权）人： | 爱德牌工程有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 章社杲;吴贵明 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
1.一种等离子体处理装置，包括：
室；
进气/排气部，设置在所述室的底部以将压缩气体提供到所述室中或将所述室排空，所述进气/排气部被构造成使得其内径向上增加并且从所述室的底表面突出预定的高度；
压缩气体源，连接至所述进气/排气部以向其提供所述压缩气体；以及
真空源，所述真空源连接至所述进气/排气部以排空所述室；
其中，至少一个排出孔形成在所述进气/排气部的侧壁内，以排出堆积在所述室的底部上的颗粒。
2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，所述排出孔相对于所述室底部倾斜。
3.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，进一步包括用于选择性地打开或关闭所述进气/排气部或所述排出孔的封闭件。
4.根据权利要求3所述的等离子体处理装置，其中，所述封闭件是止回阀。
5.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，进一步包括用于选择性地将所述进气/排气部与所述压缩气体源或所述真空源连接的阀。
6.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，所述压缩气体是N2。
7.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，所述室是处理室或真空交换室。
8.一种等离子体处理装置，包括：
室；
进气部，设置在所述室的底部以向所述室供以压缩气体，并且被构造成使得其内径向上增加，所述进气部从所述室的底表面突出预定的高度；
压缩气体源，连接至所述进气部以向其提供所述压缩气体；
排气部，设置在所述室的底部以将所述室排空，并且被构造成使得其内径向上增加，所述排气部从所述室的底表面突出预定的高度；以及
真空源，连接至所述排气部；
其中，至少一个排出孔形成在所述排气部的侧壁内，以排出堆积在所述室的底部上的颗粒。
9.根据权利要求8所述的等离子体处理装置，其中，所述排出孔相对于所述室底部倾斜。
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