[发明专利]一种用于量子阱红外探测器的交叉组合式双周期光栅有效

专利信息
申请号: 200710062231.5 申请日: 2007-06-29
公开(公告)号: CN101106164A 公开(公告)日: 2008-01-16
发明(设计)人: 齐丽芳;李献杰;赵永林;尹顺政;蔡道民 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十三研究所
主分类号: H01L31/0232 分类号: H01L31/0232;H01L31/18;G02B5/18;G02F1/35;G03F7/00
代理公司: 石家庄国为知识产权事务所 代理人: 张明月
地址: 050051河北*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 量子 红外探测器 交叉 组合式 双周 光栅
【权利要求书】:

1.一种用于量子阱红外探测器的交叉组合式双周期光栅,包括响应不同波长的两种尺寸的光栅,其特征在于:两种尺寸的光栅孔各自成行后依次交叉排列。

2.根据权利要求1所述的一种用于量子阱红外探测器的交叉组合式双周期光栅,其特征在于所述奇数行的一个光栅孔和偶数行的两个光栅孔组成一个“品”字形。

3.根据权利要求1所述的一种用于量子阱红外探测器的交叉组合式双周期光栅,其特征在于所述光栅的横向尺寸按单周期光栅设计,其尺寸参数的计算公式为:d1=λ1/n,d2=λ2/n,a1=0.707d1,a2=0.707d2,h1=λ1/(3.2n),h2=λ2/(3.2n);纵向尺寸的计算公式为:d3≈d1+d2,x1=0.707d2,y1=0.707d1

4.根据权利要求1所述的一种用于量子阱红外探测器的交叉组合式双周期光栅,其特征在于所述光栅的光刻工艺为:

A先在光栅片上刻出奇数行光栅的图形;

B再用偶数行光栅掩膜版通过光刻工艺制作出偶数行光栅的掩模图形。

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