[发明专利]一种具有红外光生伏特效应的“光敏染料/硅”双层结构

权利要求书

1、一种具有红外光生伏特效应的“光敏染料/硅”双层结构，其特征是，其结构式为：

分别代表：

其中R₁为H CH₃ C₂H₅ CH₃O C₂H₅O Cl Br I(CH₃)₂N HO

其中R₂，R₃为H CH₃ C₂H₅ C₃H₇ C₆H₅

其中R₄，R₅为H CH₃ C₂H₅ C₆H₅ CH₃O C₂H₅O Cl BrI(CH₃)₂N HO

其中R₆，R₇为H CH₃O C₂H₅O

其中R₈为H CH₃O C₂H₅O Cl HO

其中R₉为H CH₃ C₂H₅ C₆H₅ Cl CH₃O C₂H₅O HO

其中R₁₀为H CH₃ C₂H₅

其中R₁₁R₁₂为H CH₃ C₂H₅ C₆H₅ Cl CH₃O C₂H₅On＝1，2，3，4，5……正整数

         n＝1，2，3，4，5……正整数

②G₁，G₂分别代表H CH₃ C₂H₅ C₃H₇ C₄H₉ C₆H₅ C₆H₅O CH₃O

C₆H₅S C₆H₅NH Cl Br

③n＝0，1；m＝0，1

④L代表乙撑基取代乙撑基丙撑基取代丙撑基

⑤X^-代表负离子

⑥A代表CH₂CHCH₂O

B代表CH₂CHSi(OR’)₂O R’为CH₃、C₂H₅

在AnBm中，n，m可均等于零，亦可n为零m为壹或者n为壹m为零

⑦R代表烷基，取代烷基、烯基、取代烯基、炔基、取代炔基。

2、根据权利要求1所述一种具有红外光生伏特效应的“光敏染料/硅”双层结构，其特征是，所述结构式中的硅是单晶硅、或多晶硅或非晶硅。