[发明专利]旋涂温控装置及方法

说明书

技术领域

本发明涉及旋涂机构中对已金属化待旋涂基板表面温度加以控制的装置及方法。

背景技术

单面双层可记录DVD光盘(DVD R9)由于具有存储密度高、体积小、存储期限长、成本低廉、兼容性高以及错误率低等优点，因此已成为目前信息记录媒体的重要成员。单面双层可记录DVD光盘制作工艺主要有两种：

一种为2P(Photopolymer)制程，(又叫做Surface Transfer Process)，底下那层(L0)的做法与单层可记录DVD相同，只不过反射层必须溅镀的比较薄，成为一个半反射层。然后涂上一层感光树脂，用具有沟槽形状的软性模仁(Soft Stamper)来压制它，再注入空气使软性模仁分离，这样便制造出具有沟轨形状的间隔层了。完成后再如同单层可记录DVD的做法旋转涂布染料、溅镀金属全反射层后再贴合。

此种作法难度颇高，且须另购机台来处理间隔层。其优点是与单层片结构相似因此较为可靠，但缺点是生产周期长(产能低)、且成本很高。

另一种较新的制程，称之为IS(Inverted Stack)制程，它是利用两片单层的片子来贴合，不过上层(L1)是先溅镀金属反射层再涂布染料，而且在贴合前必须溅镀一层保护层以免染料与黏合剂反应。

这种制程成本较低、且生产速度较快，但困难度在于对L1的制程参数上的掌控，导致L1层涂布不均，合格率降低。

而在L1上进行的记录介质之涂膜厚度主要是通过旋涂腔内温度的控制而实现，此种旋涂温控方法对于涂膜厚度的控制难以保持稳定及准确。

现有旋涂腔具有温控装置，主要是利用恒温恒湿机对整个旋涂腔内的空气温度进行控制。这种方法的主要缺点在于：对已金属化待旋涂基板表面温度控制的精度较低，造成涂膜的良品率不高。

发明内容

本发明在于解决基于单面双层可记录DVD盘片现有IS制作工艺中对整个旋涂腔控温控湿效果不佳，导致涂膜厚度控制不均的问题。

相应地，本发明目的是为了准确及快速地控制旋涂时已金属化待旋涂基板表面的温度；提供一种用于对制作单面双层可记录DVD盘片L1层液态可记录介质在已金属化待旋涂基板(载体)进行旋涂时进行控温的旋涂温控装置，其可利用温度变化控制涂膜厚度，并控制旋涂时间来达到需要的固定膜厚。

制作光盘时，有机染料作为光盘记录介质，一般是先溶于溶剂中，再用旋涂法涂在聚碳酸酯盘基上，形成记录薄膜层，在激光进行信息记录时，染料膜层吸收激光能量，并把它转变成热能，然后染料发生热分解，反射率发生变化，从而实现信息的写入和读取。

基本物理原理可知，盘片上的染料溶液的蒸发速率是由气流、染料温度和旋涂腔的温、湿度等因素综合决定。旋涂工艺是设定旋涂腔的温度及旋涂装置的旋涂参数来控制。旋涂温度的变化直接影响染料在基板上挥发的速度即影响在相同旋涂参数下成膜的厚度及染料在沟槽内的填充性。旋涂完成以后涂膜固化过程，则另有烘干程序，完成固化过程。

为了达到均匀控制涂膜厚度的目的，本发明现提供一种旋涂温控装置，其包括：

适于在转动的同时夹持已金属化待旋涂基板的旋涂机构；

已金属化待旋涂基板供给/移除机构，当已金属化待旋涂基板在所述旋涂机构内转动时，该供给/移除机构给已金属化待旋涂基板供应一覆盖所述基板中心及环绕所述中心的一部分基板，并在所述基板已经完成转动后，该供给/移除机构将所述已金属化待旋涂基板移离；

分配器机构，当所述已金属化待旋涂基板在所述旋涂机构内保持并转动时，所述分配器机构给所述已金属化待旋涂基板的上表面供应液态可记录介质材料；

其中该旋涂温控装置包括：

温控装置系统，当已金属化待旋涂基板置于旋涂机构上，在所述旋涂机构内转动时所述温控装置系统开始同步运行，对所述已金属化待旋涂基板进行温控调节。

如上所述的旋涂温控装置，其中，所述温控装置系统利用对所述已金属化待旋涂基板下表面以流动气体为载体进行热量交换从而实现温度控制。

如上所述的旋涂温控装置，其中，温控装置系统包括：送风部件、回风部件、温控显示部件、温度设置部件、调温部件；其中送风部件置于旋涂机构下部，与旋涂机构置于同心圆内；温控显示部件设置于已金属化待旋涂基板下方并在冷却空气出口上方，不与已金属化待旋涂基板接触。

如上所述的旋涂温控装置，其中，温控显示部件跟踪及显示气体的温度的精度范围在±1度。

如上所述的旋涂温控装置，其中，温度设置部件，在所述液态可记录介质材料固化温度范围内设定温度，并将指令转送到用于送风部件及调温部件。