[发明专利]气化器

说明书

技术领域

本发明所涉及一种的气化器，主要是一种用于浮法玻璃生产线中利用CVD工艺在线镀膜时将镀膜前驱液的气化的装置。

背景技术

液体喷淋技术在平板玻璃表面上使用的是液态的镀膜材料，而CVD技术使用的则是气体或蒸汽材料。不过这两种技术都需要在热平板玻璃表面上进行化学反应。CVD技术没有液体喷淋技术那么古老，它只是在20世纪60年代初期随着单晶膜层用于生产半导体部件才开始推广使用的。在20世纪70年代，人们开始尝试CVD与平板玻璃生产线结合在一起的在线工艺，试图用它在大面积平板玻璃上进行镀膜。采用这种工艺生产出来的第一个产品是英国皮尔金顿公司生产的“Reflectafloat”阳光控制膜。与用于生产半导体部件产品相反的是，在平板玻璃应用中，吹过玻璃表面的镀膜气体气流与周围气压属于湍流的范围。这样，在大面积玻璃表面上得到的膜层沉积速率就更高，厚度也更均匀。现在，使用在线CVD技术的公司主要是英国、德国和美国的皮尔金顿集团，主要产品包括基于SnO₂:F膜的导电玻璃(例如“Tec Glass”)、基于SnO₂:F和SnO₂:Sb膜的低辐射玻璃以及基于光催化TiO₂膜(如“Active”)的所谓自清洁玻璃。倡导在线CVD技术的人士曾经预言这种技术将在大多数应用领域上取代目前广泛使用的溅射沉积工艺。目前，在浮法玻璃生产线上利用CVD工艺可以在玻璃基片上镀多种金属和非金属及其氧化物、氮化物和碳化物薄膜。目前已知的用来镀膜的化学物只有很少的一部分是气态的，大多数为液态或固态。而现在在线镀膜所需要解决的就是如何解决镀膜的均匀性、防止在玻璃表面出现彩虹、如何使膜层的技术指标达到要求的问题。这和均匀的气体成分、稳定的气压是密不可分的。而目前我们所采用的镀膜前驱液大多数为液态物质，所以就需要这样一种气化器来保证液体完全气化后的气体的均匀及稳定。如专利公开号为CN2539749Y阐述了一种气化器的气化方法，该发明采用的也是先雾化再汽化的方法，雾化器采用压力式旋转雾化器，但是它将气体出口设置在腔体的下端，那么气化不完全的小液滴很容易随着气流进入气体输送管道，影响膜层的质量以及视觉效果。该专利中也没有涉及在前端输送过程中进行计量，仅仅在气化后的气体输送过程中采用了流量计。如专利公开号为CN1754983A的专利也阐述了一种气化器的气化方法，其原理与专利公开号为CN2539749Y的原理基本相同。以上两份专利都是将气体出口设置在容器的下端。

发明内容

本发明的目的之一就是为了克服已有技术中存在的气化出口设置在底部，易使雾化的气体中夹带冷凝小液滴及雾化效果差缺点而设计的一种雾化器；本发明的目的之二就是设置控温计量装置以便对气化器的气化过程进行精确控制。

为了实现上述目的，

本发明采用了如下技术方案：

一种气化器，它由气化罐、载气储罐和镀膜前驱液储罐组成，载气储罐通过管道与气化罐连接，镀膜前驱液储罐上设有输液泵并通过管道与气化罐连接，气化罐上设有气体出口、内部设有雾化器和电热丝，其特征在于气化罐内腔底部设有压力式雾化器，载气储罐所连接的管道和镀膜前驱液储罐所连接的管道经汇总为一根管道后接入气化罐底部并与压力式雾化器相连，气化罐气体出口设置在气化罐的顶部并通过管道连接一个气体计量装置，气体计量装置通过管道连接一个保温控温装置，保温及控温装置上设有通往反应器的管道。

所述的气化罐横截面上部呈锥体、下部呈倒锥体的结构形状，

所述的载气储罐所连接的管道中和镀膜前驱液储罐所连接的管道中分别设有加热器。

所述的镀膜前驱液储罐的输液泵与加热器之间设有水冷装置。

所述的气化罐底部设有冷凝液回收槽。

所述的气化罐设有测温热电偶及电子控温装置。