[发明专利]低辐射镀膜玻璃的制造方法及其所用的镀膜溶液

说明书

【技术领域】

本发明涉及一种低辐射镀膜玻璃的制造方法及所用该镀膜溶液，属于玻璃镀膜领域。

【背景技术】

低辐射镀膜玻璃，又叫low-E(low-emissivity)镀膜玻璃，其中“低辐射”是根据英文义译的。这种低辐射镀膜玻璃的特点就是，它能够允许太阳能中的热辐射部分进入室内，而将室内暖气及室内物体散发的绝大部分热辐射反射回室内，保证室内热量不向室外散失，从而节约取暖费用；同时，它还具备较高的可见光透过率，较低的可见光反射率，避免了光污染，在大量使用Low-E产品的玻璃幕墙上，以往惹人厌烦的反射强光现象能得到有效缓解。

根据生产过程，low-E镀膜玻璃分为在线low-E镀膜玻璃和离线low-E镀膜玻璃，在线low-E镀膜玻璃的生产工艺主要有CVD(chemicalvaporization deposition，化学气相沉积)工艺；离线low-E镀膜玻璃的生产工艺主要为磁控溅射工艺。

离线low-E镀膜玻璃的主要优点就是辐射率低、颜色多样性；但是还存在以下不足：1)镀膜过程中，对镀膜所用玻璃的“新鲜度”的要求高，即这种镀膜对所用的玻璃的存放时间有一定要求，从浮法玻璃生产线出来的玻璃原片的存放时间越短，镀膜效果越好；2)镀膜之前，玻璃需要经过严格的抛光、洗涤等工序，以保持玻璃上表面的清洁；3)镀膜层数多，所需靶材多，生产这种low-E镀膜玻璃需要镀几层、甚至十几层才能够实现所述功能；4)成本高；5)工艺参数的重复性较差；6)不能进行钢化、热弯、夹层等深加工处理。

在线low-E镀膜玻璃的最大特点就是，镀膜之后，可以进行钢化、热弯等深加工操作，也可以异地运输，给用户带来极大的方便；可见光透过率较高，具有良好的采光效果；没有普通镀膜玻璃的光污染问题；稳定的化学性能，对储存、洗涤、切割无特殊要求；稳定的热加工性能，可单片使用，也可进行钢化、热弯等操作；稳定的机械性能，膜层牢固、耐磨性好、不易划伤。

在线生产工艺主要包括CVD工艺，这种CVD工艺的特点：1)大部分情况下都将镀膜设备放置在锡槽内，即整个镀膜过程是在锡槽内完成的；也有将镀膜设备放在退火窑内的；2)所用的原料全部为气态的。

如中国发明专利97190763.3号公开了一种利用CVD工艺浮法在线生产低辐射膜玻璃的方法。该方法采用的是气化的反应物混合物作为镀膜材料：用热的载气流将分散的或流化的有机锡粉末气化，也可将溶剂化的有机锡化合物注入到热的载气流中。有机锡的反应气流包括有机锡、氧化剂、惰性载气等；优选的有机锡化合物为二甲基二氯化锡，氧化剂为O2和水，惰性载气为氦气、N2、氩气、或其混合物。HF的反应气流包括HF、载体和水蒸气。两种气流被输送到热玻璃板表面，并在靠近热的玻璃板表面处合并、相互反应沉积成膜层。输送时的气态反应混合物包括0.01-8％的有机锡、0.5-1.5％HF、30-50％的氧气、15-35％的水(均为摩尔比)。

但CVD工艺仍存在以下不足：1)镀膜设备的寿命短，需要经常更换；2)因全部均为气体原料，设备复杂，操作不方便；3)插入锡槽内的镀膜设备与玻璃板之间的距离不容易控制；4)所用的气态的镀膜原料容易对锡槽气氛造成影响；5)镀膜设备的移进、移出都会影响锡槽气氛；6)镀膜副产物容易对锡槽内的玻璃液造成污染；7)成本高。

目前业内还没有出现一种采用高温热解喷涂工艺来生产在线低辐射玻璃，以及用该方法生产在线低辐射玻璃所用的镀膜溶液。

【发明内容】

本发明主要目的之一是在于提供一种低辐射镀膜玻璃的镀膜方法，其采用高温热解喷涂工艺生产在线低辐射玻璃，可将镀膜设备与浮法玻璃生产线结合起来，实现在线生产。

所述镀膜方法包括如下步骤：

1)将镀膜溶液输送到镀膜装置，所用述的镀膜装置的喷口与玻璃板的垂直距离为30-40mm；

2)以干燥、净化的压缩空气作为雾化气，并且保持雾化气的压力为0.6-0.75MPa；

3)在雾化气带动下，将镀膜溶液喷涂到移动的热的玻璃板表面，玻璃板的温度控制在550-625℃；

4)浮法生产线的下游设有一个排气系统，镀膜废料经排气系统抽掉；

5)移动的玻璃板经退火、在线检测、切割、下片、包装等工序成为最终产品。

其中，步骤1)中所述的镀膜装置是喷枪，所述喷枪向浮法生产线的下游方向倾斜，与水平线夹角为30-45°。