[发明专利]低辐射镀膜玻璃的制造方法及其所用的镀膜溶液

权利要求书

1.一种低辐射镀膜玻璃的制造方法，包括如下步骤：

1)将镀膜溶液输送到镀膜装置，所用述的镀膜装置的喷口与玻璃板的垂直距离为30-40mm；

2)以干燥、净化的压缩空气作为雾化气，并且保持雾化气的压力为0.6-0.75MPa；

3)在雾化气带动下，将镀膜溶液喷涂到移动的热的玻璃板表面，玻璃板的温度控制在550-625℃；

4)浮法生产线的下游设有一个排气系统，镀膜废料经排气系统抽掉；

5)移动的玻璃板经退火、在线检测、切割、下片、包装等工序成为最终产品。

2.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃的制造方法，其特征在于：步骤1)中所述的镀膜装置是喷枪，所述喷枪向浮法生产线的下游方向倾斜，与水平线夹角为30-45°。

3.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃的制造方法所用的镀膜溶液由下列组分按重量百分比组成：

锡源15-30％；

氟源2-10％；

活化剂0.5-2％；

添加剂2-7％；

溶剂60-80％。

4.根据权利要求3所述的镀膜溶液，其特征在于：锡源来自二氯化锡、四氯化锡、二丁基氧化锡、三丁基氟化锡、二丁基二氟化锡、三氟化丁基锡、三丁基氯化锡、二丁基二氯化锡、丁基三氯化锡、三氯化甲基锡、二氯化二甲基锡中的一种或几种。

5.根据权利要求3所述的镀膜溶液，其特征在于：所述的氟源来自氢氟酸、三氟乙酸、氟化铵、氟化镁、氟化钙、氟化钾、氟化氨、氟氢化氨中的一种或者几种。

6.根据权利要求3所述的镀膜溶液，其特征在于：所述的活化剂为多羟基嵌段共聚物。

7.根据权利要求3所述的镀膜溶液，其特征在于：所述的添加剂来自锌、镁、镍、铋、锆、锰、铬、铈的氯化物的一种或者几种。

8.根据权利要求3所述的镀膜溶液，其特征在于：所述的溶剂来自苯、甲苯、甲醇、乙醇、丙醇、丙酮、二甲基甲酰胺、卤代甲烷、乙酸乙酯、甲酸乙酯以及去离子水的一种或者几种。