[发明专利]抗反射膜及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种抗反射膜，特别涉及一种具有高硬度及高耐磨性的抗反射膜。

背景技术

平面液晶显示器已广泛地应用于各项现代电子化产品，如个人计算机、笔记本计算机、数码相机、移动电话、个人数字化助理(PDA)及液晶电视等。液晶面板产品技术的发展，除了朝向高对比、广视角、高辉度、薄型化、大型化之外，也往表面附加功能如抗刮、抗眩、抗反射、抗污等方向发展。应用在日常生活中，影像清晰度直接影响使用者的舒适感，外在光线在显示器表面的玻璃或塑料基材的表面约有4～5％的反射率，在使用时，容易受外界光线干扰，影响画面视觉效果，对于大尺寸面板，特别是大于20时以上的液晶电视而言，其屏幕表面外在光反射影响更为明显。

要达成抗反射的效果通常可利用多层光干涉原理来完成，当入射光线通过涂层界面时会有部分穿透及部分反射的特性，如穿透区介质折射率大于入射区介质的折射率时，反射波会产生180度转相；反之，如穿透区介质折射率小于入射区介质的折射率时，反射波会维持与入射波同相。利用光线通过涂层的不同界面时，使其所产生的反射波形成破坏性干涉，即为多层光干涉的抗反射原理。当涂层光学厚度(涂层折射率与涂膜厚度的乘积)为四分之一入射波波长的奇数倍时，破坏性干涉效果最佳。抗反射镀膜可分为单层至多层结构，层数越多抗反射效果越佳，低反射波长区域也越广。低折射率层的折射率越低，抗反射效果也越好。

如美国专利第5591517号“antireflection film”中所揭示及美国专利第6207263B1号“anti-refection film and process for preparation thereof”中所揭示，利用二至四层不同折射率涂层以达到较佳的抗反射效果。传统上为了使抗反射膜具有较佳的硬度及耐磨擦性，低折射率层经常使用热硬化方式来制作，如美国专利第6649271B2号“anti-static anti-reflective film”中所揭示及美国专利第6841272B2号“film for optical applications”中所揭示，然而热硬化的低折射率涂液通常需要较高温度或是较长时间来完成硬化反应，对于厚度较薄的膜类基材并不适合。为了避免热硬化涂液的缺点，JSR(JSRcorp.)，SOC(Sumitomo Osaka Cement Co.Ltd.)，DSM(DSM Desotech Inc.)等公司陆续开发出紫外光硬化的低折射率涂料。然而，紫外光硬化的低折射率涂料虽然具有生产快速的特性，但却有较差的硬度及耐磨擦的性质。

传统的抗反射膜结构如图1所示，硬镀层涂液涂布于基材10之上，经过烘箱将涂液中所含溶剂蒸发，经过紫外灯照射后产生硬化反应，形成稳定的硬镀层12。然后，再将低折射率涂料涂布于硬镀层12之上，经过烘箱将低折射率涂液中的溶剂蒸发，再经过紫外灯照射后，形成低折射率层14。然而，不幸的是，紫外光硬化树脂的硬镀层具有较高的键结密度，其表面不易再附着一层紫外光硬化树脂的低折射率层，无法获得良好硬度及耐磨性的抗反射膜。

因此，业界亟需一种高硬度及耐磨性的抗反射膜，以改善传统抗反射膜的缺点。

发明内容

本发明的目的在于提供一种抗反射膜及其制法，其可以达到提高硬度及耐磨性的功效。

为达上述目的，本发明提供一种抗反射膜，包括设置于基底上的硬镀层，设置于硬镀层之上的低折射率层，以及设置于硬镀层及低折射率层之间的介质层(primer)。

为达上述目的，本发明还提供一种抗反射膜的制造方法，首先将硬镀层涂液涂布于基底上形成硬镀层，接着将硬镀层以碱液处理或电晕(corona)处理后于其上涂布介质层涂液形成介质层，然后将低折射率涂液涂布于介质层上，形成低折射率层。

为了让本发明的上述和其它目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举出优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下：

附图说明

图1所示为现有技术的抗反射膜的结构剖面图。

图2所示为本发明优选实施例的抗反射膜的结构剖面图。

主要附图标记说明

10、20～基底；

12、22～硬镀层；

24～介质层；

14、26～低折射率层。

具体实施方式