[发明专利]抗反射膜及其制造方法

权利要求书

1.一种抗反射膜，包括：

基底；

设置于该基底上的硬镀层；

设置于该硬镀层之上的低折射率层；以及

设置于该硬镀层及该低折射率层之间的介质层。

2.如权利要求1所述的抗反射膜，其中该介质层的材料为光硬化型硅氧烷。

3.如权利要求2所述的抗反射膜，其中该介质层的材料还包括多个纳米粒子。

4.如权利要求1所述的抗反射膜，其中该硬镀层的材料为紫外光硬化型树脂。

5.如权利要求4所述的抗反射膜，其中该硬镀层的材料还包括寡聚物。

6.如权利要求1所述的抗反射膜，其中该低折射率层的材料为紫外光硬化型材料。

7.如权利要求6所述的抗反射膜，其中该紫外光硬化型材料包括多孔性二氧化硅、氟衍生物或前述的组合。

8.一种抗反射膜的制造方法，包括：

提供基底；

将硬镀层涂液涂布于该基底上，形成硬镀层；

将该硬镀层进行碱液处理或电晕处理；

将介质层涂液涂布于该碱液处理或该电晕处理过的该硬镀层上，形成介质层；以及

将低折射率涂液涂布于该介质层上，形成低折射率层。

9.如权利要求8所述的抗反射膜的制造方法，其中该硬镀层涂液包括光引发剂、紫外光硬化型树脂单体、寡聚物及溶剂。

10.如权利要求8所述的抗反射膜的制造方法，其中该介质层涂液包括光硬化型硅氧烷聚合物及极性溶剂。

11.如权利要求10所述的抗反射膜的制造方法，其中该光硬化型硅氧烷聚合物的化学式为下列式1，

Y-[CH₂]_n-SiR_mX_3-m    式1

其中，

n为0至5的整数，m为0至2的整数，R为烷基，X为氧烷基，Y为乙烯基(CH₂＝CH-)、丙烯酰基(CH₂＝CHCOO-)或甲基丙烯酰基(CH₂＝CCH₃COO-)。

12.如权利要求10所述的抗反射膜的制造方法，其中该介质层涂液还包括多个纳米粒子。

13.如权利要求8所述的抗反射膜的制造方法，其中该低折射率涂液为紫外光硬化型材料。

14.如权利要求13所述的抗反射膜的制造方法，其中该紫外光硬化型材料包括多孔性二氧化硅、氟衍生物或前述的组合。

15.如权利要求8所述的抗反射膜的制造方法，其中该碱液包括氢氧化钾(KOH)或氢氧化钠(NaOH)水溶液。