[发明专利]高反射层系统，用于制造该层系统的方法和用于实施该方法的设备

说明书

本发明涉及一种高反射的层系统，用于以提高反射的层涂覆基底， 一种用于制造该层系统的方法以及一种用于实施该方法的设备。

为了改善产品表面的反射特性，公知的是，以高反射材料的薄的 层涂覆该表面。对于此，常见的有各种方法，例如具有或者不具有等 离子体支持的化学气相沉积(CVD)，其中在基底的热的表面上固体 成分由于化学反应从气相中被沉积，或者物理气相沉积(PVD)，其 中应被沉积的材料以固态形式存在。例如热气相喷镀、溅射和离子镀 称得上是PVD-方法。凭借各种PVD-变体，几乎所有的金属还有碳可以 以非常纯净的形式被沉积。如氧气、氮气或碳水化合物的反应气体被 输送给所述工艺，氧化物、氮化物或碳化物同样被沉积。

为了实现特别高反射的表面，根据本发明被设计为，在基底(S0) 上制造多层的层构造，该层构造至少包含下列层：

在基底(S0)的表面上涂敷第一功能反射层(S3)。该第一功能 反射层(S3)可以为反射的或者部分反射的和由金属或者金属合金组 成，该金属或者金属合金含有来自铜、镍、铝、钛、钼、锡的组中的 一种或多种成分。在该第一功能反射层(S3)上设置有第二功能反射 层(S5)。该第二功能反射层(S5)可以由金属或者金属合金组成， 例如银或者银合金。在该第二功能反射层(S5)上跟着的是第一透明 介电层(S7)。该第一透明介电层(S7)例如可以由氧化硅组成。在 该第一透明介电层(S7)上设置有第二透明介电层(S8)。该第二透 明介电层(S8)例如可以由氧化钛组成。

根据本发明的一个设计方案，硬质材料层和/或光滑层(S1)被设 置在基底(S0)与第一功能反射层(S3)之间。该硬质材料层和/或光 滑层(S1)可以有利地为氧化物层，该氧化物层例如通过阳极氧化被 构成。另外，该硬质材料层和/或光滑层(S1)可以有利地为漆层。

根据本发明的另一个设计方案，增附剂层(S2)被设置在基底(S0) 与第一功能反射层(S3)之间。该增附剂层(S2)有利地由金属、金 属氧化物、金属氮化物或这些物质的混合物组成。该增附剂层(S2) 有利地含有来自铬、钼、锌、钛、锡、铝、硅的组中的一种或多种成 分。当既设置有硬质材料层和/或光滑层(S1)又设置有增附剂层(S2) 时，那么该增附剂层(S2)被设置在硬质材料层和/或光滑层(S1)上 是有利的，该硬质材料层和/或光滑层(S1)在其侧被直接设置在基底 (S0)上。

根据本发明的另一个设计方案，增附剂层(S4)被设置在第一功 能反射层(S3)与第二功能反射层(S5)之间。该增附剂层(S4)可 以由金属、金属氧化物、金属氮化物或这些物质的混合物组成。该增 附剂层(S4)有利地含有来自氧化锌、氧化钛、氧化锡、氧化铝或氧 化硅的组中的一种或多种成分。

根据本发明的另一个设计方案，增附剂层(S6)被设置在第二功 能反射层(S5)与第一透明介电层(S7)之间。该增附剂层(S6)可 以由金属、金属氧化物、金属氮化物或这些物质的混合物组成。该增 附剂层(S4)有利地含有来自氧化锌、氧化钛、氧化锡、氧化铝或氧 化硅的组中的一种或多种成分。

根据本发明的另一个设计方案，在第二透明介电层(S8)上设置 至少一层另外的透明介电层(S9)、(S10)等。

根据本发明的另一个设计方案，第一功能反射层(S3)被构成为 非光密性的。此外，该第一功能反射层(S3)的厚度优选最高为90nm。

根据本发明的另一个设计方案，第一功能反射层(S3)和第二功 能反射层(S5)一同被构成为光密性的。此外，第一功能反射层(S3) 和第二功能反射层(S5)的厚度的总和优选高于90nm。

第一功能反射层(S3)允许降低第二功能反射层(S5)的厚度， 而不产生该层系统的反射率的显著丧失。作为副效应，该层结构在适 当地选择层材料用于第一功能反射层(S3)时，同样允许通过电子束 蒸发镀覆相对厚的第二功能反射层(S5)。所以，如截至目前通常通 过磁控溅射镀覆第二功能反射层(S5)不再必要。

根据本发明的层系统使得在大量产品上制造高反射的表面成为可 能，对于该产品要求这样的表面。本发明的应用领域涉及所有此类产 品，所有此类产品被本发明明确地一起包含。关于待涂覆的基底(S0) 的材料，没有给出限制。而根据本发明的层系统特别有利地被应用到 金属基底(S0)上，该金属基底(S0)应获得高反射表面。