[发明专利]高反射层系统，用于制造该层系统的方法和用于实施该方法的设备

权利要求书

1.用于涂覆基底的高反射层系统，其特征在于，所述层系统至少 含有下列层：

被构成为非光密性的第一材料的第一功能反射层；

第二材料的第二功能反射层；

第一透明介电层；

第二透明介电层，

其中第一功能反射层和第二功能反射层一同被构成为光密性的。

2.根据权利要求1所述的层系统，其特征在于，所述第一功能反 射层由金属或者金属合金组成。

3.根据权利要求1所述的层系统，其特征在于，所述第二功能反 射层由金属或者金属合金组成。

4.根据权利要求1所述的层系统，其特征在于，所述第一功能反 射层的材料包括铜，并且，所述第二功能反射层的材料由银或者银合 金组成。

5.根据权利要求1所述的层系统，其特征在于，所述第一透明介 电层由氧化硅组成。

6.根据权利要求1所述的层系统，其特征在于，所述第二透明介 电层由氧化钛组成。

7.根据权利要求1所述的层系统，其特征在于，硬质材料层和/或 光滑层设置在所述基底与所述第一功能反射层之间。

8.根据权利要求7所述的层系统，其特征在于，所述硬质材料层 和/或光滑层为氧化物层。

9.根据权利要求7所述的层系统，其特征在于，所述硬质材料层 和/或光滑层通过阳极氧化被构成。

10.根据权利要求7所述的层系统，其特征在于，所述硬质材料层 和/或光滑层为漆层。

11.根据权利要求1所述的层系统，其特征在于，第一增附剂层设 置在所述基底与所述第一功能反射层之间。

12.根据权利要求11所述的层系统，其特征在于，所述第一增附 剂层由金属、金属氧化物、金属氮化物或这些物质的混合物组成。

13.根据权利要求11所述的层系统，其特征在于，所述第一增附 剂层含有来自铬、钼、锌、钛、锡、铝、硅的组中的一种或多种成分。

14.根据权利要求1所述的层系统，其特征在于，在所述基底与所 述第一功能反射层之间设有硬质材料层和/或光滑层和第一增附剂层， 其中，所述第一增附剂层设置在所述硬质材料层和/或光滑层上，所述 硬质材料层和/或光滑层在其侧被直接设置在所述基底上。

15.根据权利要求1所述的层系统，其特征在于，第二增附剂层设 置在所述第一功能反射层与所述第二功能反射层之间。

16.根据权利要求15所述的层系统，其特征在于，所述第二增附 剂层由金属、金属氧化物、金属氮化物或这些物质的混合物组成。

17.根据权利要求15所述的层系统，其特征在于，所述第二增附 剂层含有来自氧化锌、氧化钛、氧化锡、氧化铝、氧化硅的组中的一 种或多种成分。

18.根据权利要求1所述的层系统，其特征在于，第三增附剂层设 置在所述第二功能反射层与所述第一透明介电层之间。

19.根据权利要求18所述的层系统，其特征在于，所述第三增附 剂层由金属、金属氧化物、金属氮化物或这些物质的混合物组成。

20.根据权利要求18所述的层系统，其特征在于，所述第三增附 剂层含有来自氧化锌、氧化钛、氧化锡、氧化铝、氧化硅的组中的一 种或多种成分。

21.根据权利要求1所述的层系统，其特征在于，在所述第二透明 介电层上设置至少一层另外的透明介电层。

22.根据权利要求1所述的层系统，其特征在于，所述层系统设置 在由金属或金属合金制成的基底上。

23.根据权利要求1所述的层系统，其特征在于，该层系统在选择 第一材料用于第一功能反射层时，同样允许通过电子束蒸发镀覆相对 厚的第二功能反射层。