[发明专利]图案曝光方法和图案曝光设备

说明书

技术领域

本发明涉及图案曝光方法和设备，尤其是用于在输送带-样工件时，曝光上面的周期图案的图案曝光方法和设备。

背景技术

作为薄并且具有大屏幕的图像显示器，其中通过前玻璃片和后玻璃片之间的放电来产生光的等离子体显示面片(以下称为PDP)被广泛使用。在PDP中，为了屏蔽通过放电所产生的电磁波，提供电磁屏蔽。至于电磁屏蔽，有形成在前玻璃片上的薄金属膜，和在前玻璃片的前侧安置的电磁屏蔽膜。最近，主要使用具有高屏蔽性能和高光学透明度的电磁屏蔽膜。该电磁屏蔽膜是上面形成有金属网格(以网格形状排列的细金属线)的透明膜。

常规地，电磁屏蔽膜是通过糊粘透明膜和金属箔，并且施加光蚀刻处理以将金属箔制成网格形状来形成的。然而，本申请人已经开发了通过卤化银照相技术形成的电磁屏蔽膜，其中在透明膜上形成卤化银的微小网格。在此电磁屏蔽膜中，可以制成任意形状的网格图案，并且可以使尺寸和分辨率适当地与面片的规格相匹配。另外，由于不需要复杂并且收率差的透明膜和金属箔的糊粘，因此降低了成本并且实现了稳定的供给。

为了形成电磁屏蔽膜，通过穿过掩模的光的辐照，在涂布于透明膜上的银盐光敏材料上曝光网格图案，然后通过显影在透明膜上出现银盐的网格。由于该网格的间距和线宽很大程度上影响PDP的图像质量，因此需要具有高准确度的曝光。

常规地，在用于显示器的滤色片中，形成有光屏蔽图案和彩色图案。为了形成这些图案，使用了图案曝光方法和设备，其中使光通过掩模辐照在具有光敏层的工件上，以曝光在该工件上的图案。存在着一些将此方法应用于电磁屏蔽膜用曝光工艺(prosess)的途径。例如，JP-A-9-274323公开了一种图案曝光方法，其中使光通过掩模辐照，以在连续输送的带-样工件上形成图案。另外，JP-A-10-171125公开了一种接近式曝光设备，其中，重复进行定位、间隙调整以及接近式曝光，以在间歇输送的带-样工件上形成图案。

然而，在JP-A-9-274323的图案曝光方法中，由于仅可以曝光平行于带-样工件的输送方向的条状图案，因而不能曝光沿输送方向具有各种形状的周期图案，例如适于电磁屏蔽膜的网格图案。

在JP-A-10-171125的接近式曝光设备中，尽管可以曝光包括周期图案的任意图案，但是单位时间的加工能力(生产率)低，原因在于在间歇输送过程中，定位、间隙调整以及曝光的总时间变长。

本发明的一个目的是提供一种可以以高的生产率形成在工件输送方向上排列的各种形状周期图案的图案曝光方法，以及用于形成该图案的简单且低成本的图案曝光设备。

发明内容

为了达到以上目的和其它目的，本发明的图案曝光方法包括下列步骤：连续输送具有光敏层的带-样或片-样工件，以及通过以距离该工件的预定贴近间隙布置的具有掩模图案的光掩模，对工件周期地施加接近式曝光达一定的曝光时间。从而，在工件上形成了沿工件的输送方向的掩模图案的周期图案。

当周期图案的一个周期的长度为周期长度L₀，工件在垂直于工件输送方向的方向上的宽度为工件宽度W₀，上面安置有掩模图案的图案区域在工件输送方向上的长度为图案长度L，在图案区域在工件宽度方向上的长度为图案宽度W，工件的输送速度为V，用于曝光周期图案的曝光周期为T，曝光时间为ΔT，以及掩模图案的最小线宽为D_min时，以曝光周期T对覆盖掩模图案的至少一个周期的曝光区域进行接近式曝光达曝光时间ΔT，遵循下列条件式：

L₀＜L；

W₀＜W；

L₀/V≥T；和

V·ΔT＜D_min。

优选的是，控制单次曝光，以不对工件提供需要的曝光密度，并且通过n次的多次曝光来使工件的曝光密度达到需要值。

当从曝光光源投射在光掩模上的光在工件输送方向上的长度为Lb时，满足关系Lb＞L₀。另外，当商数Lb/L₀为m(m是自然数)时，光掩模在工件输送方向上具有至少m个掩模图案，并且工件输送速度V和曝光周期T之间的关系满足下式：

(n-1)×(L₀/V)＝T(n是自然数)；和

2≤n≤m。