[发明专利]电子零件及其制造方法无效
| 申请号: | 200680034251.5 | 申请日: | 2006-10-04 |
| 公开(公告)号: | CN101268530A | 公开(公告)日: | 2008-09-17 |
| 发明(设计)人: | 渥美俊之;大庭美智史;下山浩司;松谷伸哉 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号: | H01F17/00 | 分类号: | H01F17/00;H01F41/04 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汪惠民 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 电子零件 及其 制造 方法 | ||
1、一种电子零件,其具有:
保护部,其由染色剂和光敏树脂组成;
线圈布线,其形成在所述保护部内且具有通路连接;
外部电极,其埋设在所述保护部内且一部分露出。
2、根据权利要求1所述的电子零件,其中,
所述染色剂是颜料、碳、金属氧化物、非磁性体或染料。
3、根据权利要求2所述的电子零件,其中,
所述碳、所述金属氧化物、所述非磁性体、所述颜料或所述染料的平均粒径是1nm以上10微米以下。
4、根据权利要求1所述的电子零件,其中
相对于所述光敏树脂,以颜料、碳、金属氧化物、非磁性体或染料为主成分的所述染色剂的添加量为0.01wt%以上2wt%以下。
5、根据权利要求1所述的电子零件,其中,
所述染色剂在所述光敏树脂的感光波长中的透光率,在树脂厚度为10微米时是40%以上90%以下,树脂厚度为20微米时是20%以上80%以下,树脂厚度为30微米时是10%以上70%以下,树脂厚度为40微米时是5%以上60%以下,或者树脂厚度为60微米时是1%以上40%以下中的任一个。
6、根据权利要求1所述的电子零件,其中,
构成所述通路连接的一个通路的高度为5微米以上100微米以下。
7、根据权利要求1所述的电子零件,其中,
所述线圈布线是以铜为主体的。
8、根据权利要求1所述的电子零件,其中,
所述线圈布线的剖面实质上是方形,至少其三面由同一金属或不同金属构成为多层。
9、一种电子零件的制造方法,其包括,
使用被染色剂染色的光敏抗蚀剂形成规定形状的槽或孔的步骤;
在所述槽或所述孔上形成基础电极的步骤;
在所述基础电极上析出以铜为主成分的布线材料的步骤;
去除所述布线材料的一部分并校平的步骤;
数次重复上述步骤后,分割成单片的步骤。
10、根据权利要求9所述的电子零件的制造方法,其中,
通过利用所述基础电极的导电性的电镀法,形成析出所述布线材料而成的布线。
11、根据权利要求9所述的电子零件的制造方法,其中,
去除所述布线材料的一部分时,也去除所述基础电极的一部分。
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