[发明专利]沸石分离膜及其制造方法无效
| 申请号： | 200680031968.4 | 申请日： | 2006-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN101252983A | 公开（公告）日： | 2008-08-27 |
| 发明（设计）人： | 水野豪仁 | 申请（专利权）人： | 株式会社物产纳米技术研究所 |
| 主分类号： | B01D71/02 | 分类号： | B01D71/02;B01D69/10;C01B39/02 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘春成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 分离 及其 制造 方法 | ||
1.一种沸石分离膜的制造方法，所述沸石分离膜具有多孔支撑体和形成于所述多孔支撑体上的沸石层，所述制造方法的特征在于，包括：
晶种附着步骤，使沸石晶种附着于所述多孔支撑体；
层形成步骤，使附着有所述沸石晶种的所述多孔支撑体和含有沸石的原料的反应液接触，使所述反应液的温度上升至规定温度，在所述多孔支撑体上形成沸石层；以及
支撑体分离步骤，将形成有所述沸石层的所述多孔支撑体从所述反应液分离，其中，
所述层形成步骤中，所述多孔支撑体和所述反应液的接触开始之后，使所述反应液的温度在上升至所述规定温度之前，保持为40℃以下的温度30分钟以上。
2.根据权利要求1所述的沸石分离膜的制造方法，其特征在于，
所述层形成步骤中，所述多孔支撑体和所述反应液的接触开始之后，在将所述反应液的温度保持为40℃以下的期间内，将所述反应液的温度保持为25℃～35℃的温度30分钟以上。
3.根据权利要求1所述的沸石分离膜的制造方法，其特征在于，
所述层形成步骤中，所述多孔支撑体和所述反应液的接触开始的时刻的所述反应液的温度在0℃～30℃的范围内。
4.根据权利要求2所述的沸石分离膜的制造方法，其特征在于，
所述层形成步骤中，所述多孔支撑体和所述反应液的接触开始的时刻的所述反应液的温度在0℃～30℃的范围内。
5.根据权利要求1所述的沸石分离膜的制造方法，其特征在于，
所述层形成步骤中，所述反应液的温度上升至所述规定温度之后，保持为所述规定温度2小时以上。
6.如权利要求2所述的沸石分离膜的制造方法，其特征在于，
所述层形成步骤中，所述反应液的温度上升至所述规定温度之后，保持为所述规定温度2小时以上。
7.如权利要求3所述的沸石分离膜的制造方法，其特征在于，
所述层形成步骤中，所述反应液的温度上升至所述规定温度之后，保持为所述规定温度2小时以上。
8.如权利要求4所述的沸石分离膜的制造方法，其特征在于，
所述层形成步骤中，所述反应液的温度上升至所述规定温度之后，保持为所述规定温度2小时以上。
9.一种沸石分离膜，其特征在于，
所述沸石分离膜是通过根据权利要求1至8中的任一项所述的沸石分离膜的制造方法而得到的沸石分离膜。
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