[发明专利]用作检测重叠基片的方法和设备

权利要求书

1.在单个的基片连续移动通过光传感器中检测出现的重叠基片的一种方法，上述方法包括：

使各个基片当其移动通过光传感器时置于准直相干光之下，在那里一部分光透过上述基片而被光探测器接收并且产生输出信号，其中输出信号具有与平均透过基片的光正比的低频分量和由通过光传感器的基片的粗糙表面和移动产生的高频斑纹闪光分量，

监测上述高频斑纹闪光分量，因为在其强度上的突然下降反映在重叠基片移动通过光传感器时所形成降低的高频分量。

2.如权利要求1所述的方法，其中上述方法包含使用上述光传感器来测定第一应用阈值作为在没有出现基片时来自光探测器的平均信号的预先调整量而且用第一应用阈值来测定表示基片正移动通过上述光传感器的信号上变化。

3.如权利要求2所述的方法，包含设定第二应用阈值作为在单个的基片通过上述光传感器期间高频斑纹闪光分量的预先调整量。

4.如权利要求3所述的方法，包含在基片预定的前面部分通过以后从第一应用阈值自动转变到第二应用阈值。

5.如权利要求1所述的方法，包含使用装有窄小的孔径的光探测器来产生输出信号。

6.如权利要求1所述的方法，包含在监测上述高频斑纹闪光分量之前放大输出信号。

7.如权利要求1所述的方法，包含在基片通过光传感器时把上述高频斑纹分量与预定标准作比较并且当高频斑纹闪光分量下降到上述预定标准以下时产生重叠基片信号。

8.如权利要求1所述的方法，其中使每个基片置于由激光器产生的准直相干光之下。

9.如权利要求8所述的方法，包含处理输出信号和测定在光探测器平均输出信号和高频斑纹闪光分量之间的相互关系。

10.如权利要求1所述的方法，其中使基片以50～2000mm/sec的速度输送通过光传感器。

11.一种用于在基片连续移动通过光传感器中检测出现的重叠基片的设备，上述方法包括：

使各个基片当其移动通过光传感器时置于准直相干光之下，在那里一部分光透过上述基片而被光探测器接收，上述光探测器产生具有与平均透过基片的光成正比的低频分量和由基片的粗糙表面和基片通过光传感的移动产生的高频斑纹闪光分量的输出信号，

处理装置处理高频斑纹分量以测定在其强度上突然下降，在其强度上突然下降表示在重叠基片移动通过光传感器时所形成的降低的高频分量。

12.如权利要求11所述的设备，包括用于在测定在高频斑纹分量上突然下降时阻止基片移动的一种阻挡装置。

13.如权利要求11所述的设备，其中上述处理装置包含为在没有出现基片时来自光探测器的平均信号的预定几分之一的第一应用阈值而且用上述第一应用阈值来测定在表示基片正移动通过上述光传感器的信号上变化。

14.如权利要求13所述的设备，其中上述处理装置包含设定第二应用阈值作为在单个的基片通过上述光传感器期间高频斑纹闪光分量的预先调整量。

15.如权利要求14所述的设备，包含在使基片的预定起始部分经过上述光传感器以后从第一应用阈值到第二应用阈值的自动转换装置。

16.如权利要求1所述的设备，其中上述光探测器装有产生输出信号的窄小的孔径。

17.如权利要求12所述的设备，其中上述处理装置包含用于在处理高频斑纹闪光分量之前放大输出信号的放大器。